北京 研磨抛光 仪器
GPX模式配置符合您的实验室的要求，配置不同选项，拓展多样化，总有一款适合您。一体式铝铸件的设计保证了最苛刻的环境中的刚性，而其紧凑的外形设计，足以容纳在最小的实验室。一个触摸按键和一步一步的应用指南选择允许您选择预先确定的方法，和无限数量的客户设计的应用程序可以输入和存储。特征先进的碗形/排水设计特点实现自动碗冲洗更容易清理8-10英寸 (200 to 2......
点击查看下载抛光机德国 离子研磨仪 EM TIC 3X徕卡 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡Leica EM TIC 3X可通过离子束侧面轰击样品，获得高质量无应力“切割”截面，以便于SEM观察，及EDX或EBSD等分析。并可对样品进行离子束平面抛光，抛光面积达25mm。Leica EM TIC 3X适用于多层膜材料、软硬复合材料，金属、陶瓷、地质等各种......
Qpol 30是一款便携式的手动磨抛机。 优点便携式研磨抛光装置两个微电机的控制单元通过减速齿轮增加扭矩完美研磨 - QATM 的耗材如果使用正确的方法：知识、细心以及正确选择耗材和设备，研磨就会更加可靠、安全和高效。研磨抛光机 Qpol 30技术参数转速1000-40,000rpm，连续可调磨盘直径30 mm电压要求230 V / 50-60 H......
Qpol 250 A1/A2-ECO 是用于材料分析实验室的单盘或双盘研磨抛光机，适用于直径为 200/250 毫米的工作轮。新的工作盘装配系统（整盘设计）使得无需承载底盘即可提供全面的性能。控制软件可以编辑和储存多达200种制备方法，并通过用户账号管理进行保护。 压力、转速和旋转方向（磨抛头和工作盘）均可调节。磨盘脱水旋转功能（Cleaning......
Qpol 300 A1/A2-ECO+ 是用于材料分析实验室的单盘或双盘研磨抛光机，适用于直径为 250/300 毫米的工作盘。新的工作盘装配系统（单盘设计）使得无需承载底盘即可提供全面的性能。控制软件可以编辑和储存多达200种制备方法，并通过用户账号管理进行保护。 压力、转速和旋转方向（磨抛头和工作盘）均可调节。磨盘脱水旋转功能（Cleanin......
Saphir 550（Rubin 520）是新一代的单盘磨抛机，它采用创新 的磨抛头，工作盘直径为200-300 mm。Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩，为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。带气动夹持的电动高度设置功能，结合主机的所有其他特征，saphir 550满 足最......
Saphir 560（Rubin 520）是新一代等径双盘磨抛机，它采用创新 的磨抛头，工作盘直径为200-300 mm。Rubin 520磨抛头配备了一个自动防护罩，为安全操作设定了新 标准。单点力和中心力加载、程序存储、集成的自动 加液系统及材料磨削量精确控制只是其部分功能。带气动夹持的电动高度设置功能，结合主机的所有其他特征，saphir 550满 足......
以最大化的可靠性制备大批量样品： Qpol XL是一款坚固、动力强劲的设备，具有独一无二的材料去除性能和优异的制样效果。拥有极为稳定的机体和磨抛头，这款设备是QATM立式磨抛机系列的成员之一。集成的力值传感器和创新的电子力控制可实现定量材料去除及超高的过程可靠性。直观的软件中可储存多达200个制备方法，并可进行专业的用户权限管理。优点工作盘直径300/350......
紧凑型全自动研磨抛光机器人Qpol 250 BOT将完整的研磨、抛光过程以及超声波清洗整合在一台机器中。16x光盘换片器、6x剂量单元以及可集成的沉淀池完美适配系统实验室。通过触摸屏的直观用户界面以及中心力样品夹持器的用户友好固定系统，可在最短时间内实现制备结果。所有参数都可以在自动过程中调整Qpol 250 BOT自动化的优点包括：自动化流程：研磨、抛光和......
Qpol 300 BOT的QATM开发了一种独特且全自动的紧凑型设备，该设备自动化了整个研磨和抛光过程，包括清洁和干燥。通过触摸屏进行直观操作，最多可配备两个自主样品头，实现快速自动化的样品制备。由于其模块化设计，它可以适应个别需求。Qpol 300 BOT自动化的优势：自动化流程：研磨、抛光和清洁完全自动化。灵活介质选择：根据您的特定要求选择定制介质。高重......