离子铣
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量，并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。 与机械抛光不同，离子研磨系统处理样品而不会变形或施加机械应力。因此，用于预处理样品的离子铣削系统......
技术特色：> 专利电磁聚焦离子枪设计> 超宽加速电压范围（可达10keV），抛光效率高> 电压范围不高于100eV，修复后近乎无损> 配备液氮冷台（可持续制冷超过18小时），去除热损伤> 同时具备截面切割和平面抛光功能> 可选配真空转移电子背散射衍射（EBSD）环境控制的样品制备离子束制备SEM样品制备最先进的离子铣削和抛......
NIE-3500（M）离子束清洗系统产品概述：该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3500（M）离子束清洗系统产品特点：· 低成本· &nbs......
NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为。该IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性，可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置......
NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：· 低成本· &nb......
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技术优势：Controlled thinning ratePreciseEasy to useAutomated operationAlignment microscopePrethins specimens for ion millingThe Model 200 Dimpling Grinder is a state-of-the-art mechani......
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这套离子铣削系统是为SEM和EBSD用户的斜度切削制样和无损表面抛光制样而设计多功能离子束铣削系统,ion milling system, 是SEM扫描电镜位点特异性样品制备的理想离子铣削仪器装置和离子坡度切削仪器。离子铣削系统特点易于使用和自动化操作市场上最广泛的能量范围100eV-16keV独特的预倾斜斜度切削样品架（30°，45°，90°）......