JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度,性能比优越。 利用zei细电子束束斑(实测值直径≦2.9nm)可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细......
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。产品特点:JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能......
安捷伦已停产 8453 和 8454 紫外-可见分光光度计系统,包括附件。此外还包括 UV-Vis ChemStation 软件平台以及该平台提供的所有模块。有多种 UV-Vis 系统、附件和软件产品可替代 8454 平台。 ......
产品特点:是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。zei先进......
产品特点:利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV......
默克密理博致力于开发最佳 HPLC 分离工具,凭借数十年的产品创新经验,为客户提供全面的高质量 HPLC 色谱柱。 ......
安捷伦 UV-Vis 校准标样和试剂盒为 UV-Vis 仪器的校准和确认提供了一种经济省时的解决方案。标准物质试剂盒专为进行 UV-Vis 测量时,需要严格遵守质量和法规要求的分析工作者设计。 ......
中文名:UV固化树脂英文名:UV curable resin纯度:rapid cure货号:U475768存储温度:2-8°C储存产品介绍:存储:贮存温度不应超过 35℃。保持密闭。储存在阴凉、干燥、通风良好的地方。请勿暴露于紫外线下。高温 ( 80℃)、压力和过氧化物污染可能导致产品自聚。抑制剂消耗后不稳定。应用固化速度极快,可形成玻璃状、高模量材料极佳的......
中文名:UV固化树脂英文名:UV curable resin纯度:低粘度货号:U476279存储温度:2-8°C储存产品介绍:储存:贮存温度不应超过 35°C。保持密闭。储存在阴凉、干燥、通风良好区域。请勿暴露于紫外线。高温 (>80°C)、压力和过氧化物污染可能导致产品自聚。抑制剂消耗后不稳定。应用UV 固化极低粘度树脂。快速固化形成玻璃状的高模量材......
中文名:黄芪多糖英文名:polysachoride of Astragalus mongholicus纯度:UV≥95%货号:P664535存储温度:室温产品介绍:查看阿拉丁官网此产品相关对应页面:https://www.aladdin-e.com/zh_cn/P664535.html产品目录:小分子和化合物库 > 天然产物 ......