hitachi s-3000n 真空镀膜仪
低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法，徕......
点击查看下载德国 高真空镀膜仪 EM ACE600镀膜机徕卡 Leica EM ACE 200 600镀膜仪2020版相关资料，进一步了解产品。 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。 Improve sample preparation by optimal ......
点击查看下载镀膜机德国 高真空镀膜仪 EM ACE600Leica EM ACE600 应用于多组学相关资料，进一步了解产品。 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。 理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动容易......
点击查看下载徕卡德国 高真空镀膜仪 EM ACE600Leica EM ACE600 应用于其他生命科学相关资料，进一步了解产品。 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。 理想重现的结果运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动......
Hitachi 液相自动进样针 体积 末端类型 货号 L7200/7250、AS1000/2000/4000 &......
IB-29510VET真空沉积系统是一种真空沉积系统，可以轻松制备用于电子显微镜的样品。它可用于制备适用于高分辨率观察的碳膜、各种金属沉积膜、阴影或涂层处理，以赋予非导电材料导电性，以及各种需要高真空的热处理，例如清洁电子显微镜的拉丝箔或用于实验目的。优势可以生产适合高分辨率观察的碳膜。可以生产各种金属沉积膜。涂层可以应用于非导电材料以赋予其导电性。可以通过......
喆图ZDM-90VHMDS真空镀膜机 用途概述HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），真空镀膜机又称基片预处理系统，喆图真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，没......
喆图ZDM-125VHMDS真空镀膜机 用途概述HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），真空镀膜机又称基片预处理系统，喆图真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密闭的环境中进行，......
喆图ZDM-215VHMDS真空镀膜机 用途概述HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷（别名六甲基二硅氮烷），真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统，喆图真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制，可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量，所有工艺都在密......
喆图TDM系列真空镀膜干燥箱 HMDS预处理真空干燥箱HMDS预处理真空干燥箱，又称TDM系列真空镀膜干燥箱，是一种专用于半导体、光电、微电子等领域中光刻前处理工艺的专用设备。其主要功能是在真空环境下将六甲基二硅氮烷（HMDS, Hexamethyldisilazane）以蒸汽形式沉积于基材表面，从而改善基材表面亲水性，提......