膜截面 电镜
精研一体机 Leica EM TXP徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能，是用锯，磨，铣削，抛光样品后，供电子显微镜，和LM技术检测。带有一体化体视镜，用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察；使用样品旋转手柄，可以改变样品观察角度，0°－60°可调，或者垂直于样品前表面90°观察，可利用目镜刻度标尺测量距离。For res......
IB-19520CCP 截面样品制备装置IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却，能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下，也能将样品快速冷却、恢复到室温，并且可以拆卸。配有传送机构，在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。产品特点：★ 冷却的效果 样品：镀锌钢板可提供500μm/h（8KV/2小......
IB-19530CP 截面样品制备装置为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子......
精研一体机 Leica EM TXP——徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能，是用锯，磨，铣削，抛光样品后，电子显微镜，和LM技术检测。带有一体化体视镜，用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察；使用样品旋转手柄，可以改变样品观察角度，0°－60°可调，或者垂直于样品前表面90°观察，可利用目镜刻度标尺测量距离。For re......
IB-19530CP 截面样品制备装置为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子......
产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。◇ 高通量 通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。◇&nbs......
IB-19520CCP 截面样品制备装置IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却，能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下，也能将样品快速冷却、恢复到室温，并且可以拆卸。配有传送机构，在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。产品特点：★ 冷却的效果 样品：镀锌钢板可提供500μm/h（8KV/2小......
GVC-1000小型离子溅射仪离子溅射镀膜法是一种利用离子溅射形成干涉膜，以增进相间衬度显示组织的方法。而离子溅射镀膜仪则是一种用于扫描电镜非导电样品非常理想的镀膜设备。产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于，仪器操作简单方便，......
