日立 小型离子溅射仪
SBC-12小型离子溅射仪产品特点：特殊密封结构，玻璃不易损坏操作方便，无需培训即可使用维护成本低，无需上门安装技术指标：真空系统两级直联旋片真空泵真空检测皮氏计真空保护配有微量充气阀，用于调节离子流的大小工作气体空气或氩气产品尺寸工作腔室：内径Ф100 x 130毫米载物台：小载物台直径Ф40毫米, 可同时放六个样品杯；大载物台直径Ф60毫米金靶尺寸：Ф5......
产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等技术指标工作方式：磁控溅射外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)m......
产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等技术指标工作方式：磁控溅射外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)m......
GVC-1000小型离子溅射仪在光学领域：中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜（如减反射膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃。产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适......
磁控溅射是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。其在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电......
作为一种非热涂层技术，应用于微电子领域。各种功能膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如，在低温下沉积氮化硅增透膜以提高太阳能电池的光电转换效率。产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简......
产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等技术指标工作方式：磁控溅射外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)m......
在机械加工行业，表面功能膜、超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术自诞生以来取得了长足进步，可有效提高表面硬度、复合韧性、耐磨性和高温化学稳定性，从而大大提高涂层产品的使用寿命。产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，......
产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等技术指标工作方式：磁控溅射外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)m......
产品特点全自动控制，无需调整针阀专利结构，靶材更换非常简单特殊密封结构，玻璃不易损伤专利结构，样品台高度调整方便内置操作向导，无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜，仪器操作简单方便，是样品制备所必备的仪器。适用的靶材：金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等技术指标工作方式：磁控溅射外形尺寸：424(L)×271(D)×255(H)m......