纳米薄膜沉积设备

气溶胶纳米喷印纳米印刷是柔性电子领域重要的区域性沉积技术, VSP-P1 采用独家的气溶胶冲压沉积技术,将原材料通过火花烧蚀的方式转变成纳米级气溶胶颗粒,并在真空系统配合下实现图案的绘制。该方法避免了传统喷墨打印需要导电油墨以及后续热处理去除油墨的弊端,保证图案的纳米结构最大程度的保留,避免产生气孔等缺陷。运行原理气溶胶颗粒会通过火花烧蚀......

高温超纳米压痕测试仪 (UNHT3 HTV)全球真正意义的商品化的高温高真空超纳米压痕仪,主要测量小载荷下纳米尺度机械性能的测试系统,温度在 800 °C 以下的薄膜和涂层的硬度和弹性模量。专利 UNHT3 技术与独特的加热功能结合,可提供在任何温度下的高稳定性测量解决方案。主要特点 新一代的高温纳米压痕测试仪环境条件下最低热漂移 (&l......

ADVANCE RIKO电弧等离子体沉积系统暂无适用于双电弧等离子体源共沉积项目,参考多项行业标准N. Todoroki, et al., Pt−Ni Nanoparticle-Stacking Thin Film: Highly Active Electrocatalysts for Oxygen Reduction Reaction. ACS Catal......

FF-63/80型仪器分子泵分子泵动平衡设备是一种高精度的气体处理设备,具有较广泛的应用前景。在未来,随着科技的不断发展和应用领域的不断拓展,相信它的应用范围将会越来越广泛。在半导体生产中,分子泵动平衡设备广泛应用于晶圆制造、薄膜沉积、放电等领域。产品特点:转速可达72000RPM,国内转速最高分子泵;紧凑型结构设计,便于集成,可以实现24VDC供电后分子泵......

沉积薄膜高度台阶仪

参考成交价格: 60万元[人民币]

中图仪器 台阶仪

型号:NS系列

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中图仪器NS系列沉积薄膜高度台阶仪能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。从晶圆膜厚到光刻胶台阶,中图仪器NS系列探针式台阶仪一站式解决微观形貌测量难题。在半导体、微纳材料及光电子等高精尖领域,微观结构的测量精度直接关乎良率。面对复杂的微米级甚至纳米级特征,您需要一款不......

中文名:乙酰丙酮钴(II)英文名:Cobalt(II) acetylacetonate纯度:≥97%货号:C106181Cas号:14024-48-7存储温度:充氩产品介绍:乙酰丙酮钴(II)(Co(acac)2)是一种配位化合物,其中中心钴原子与两个乙酰丙酮配体配位,这两个配体作为双齿配体。它广泛应用于有机合成、配位化学以及多种化学反应中。此外,Co(ac......

中文名:醋酸镉(II)英文名:Cadmium(II) acetate纯度:无水级 ,99.995%货号:C485449Cas号:543-90-8产品介绍:应用乙酸镉(II)可用于合成氧化镉(CdO)薄膜,其可用于气体传感器、光电晶体管和二极管。它还可用于合成硫化镉(CdS)纳米颗粒,其可用于各种光电设备中。查看阿拉丁官网此产品相关对应页面:https://w......

中文名:单层石墨烯薄膜英文名:Monolayer graphene film纯度:在SiO₂/Si衬底上1厘米x1厘米货号:M485946产品介绍: 方块电阻测量在真空室中进行,在四点结构(范德堡法,银漆接触)内注入超过 10uA的电流以确保其可重复性 石墨烯是一种独特的单原子厚度的石墨,以二维结构存在的碳的同素异形体。在所有合成技术中,石墨烯在各种基质上的......

中文名:硝酸钯(II) 二水合物英文名:Palladium nitrate dihydrate纯度:≥99.95% metals basis货号:P294583Cas号:32916-07-7存储温度:避光,充氩产品介绍:硝酸钯(II)二水合物是一种高度反应性化合物,常用于催化反应,如有机分子的氢化、烷烃的脱氢、醇的氧化。它还用于钯的表面电沉积,并可作为含钯材......

产品名称:红外气体传感器产品型号:Gasboard-2060红外气体传感器产品概述红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,可用于半导体沉积和清洗工艺的端点检测、腔室清理终端检测,能够减少清洁......

厂商新闻
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