等离子体蚀刻设备

窗口蚀刻工具

安捷伦 其它电泳配件

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窗口蚀刻工具是为在熔融石英毛细管上快速、方便、重现性地准备检测窗口而设计的。去除聚酰亚胺涂层，又丝毫无损内部的聚合物涂层。它包括划出凹槽的三个玻璃片，精确控制窗口的大小。 ......

A型铝蚀刻剂

阿拉丁 电子材料

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中文名：A型铝蚀刻剂英文名：Aluminum Etchant Type A货号：A487579存储温度：室温产品介绍：铝附件-A 型适用于硅器件和其他微电子应用的标准铝蚀刻剂。铝蚀刻剂是稳定、无毒的制剂，用于蚀刻硅器件和集成电路应用中的铝金属化层。定义了铝触点，并形成了互连。这些具有独特性能的铝蚀刻剂可以轻松克服在铝蚀刻过程中的许多困难。利用光刻技术对铝进行......

铬蚀刻剂，标准

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中文名：铬蚀刻剂英文名：Chromium etchant纯度：标准货号：C476102产品介绍：硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。铬蚀刻剂是铬基溶液，可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s，可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。应用该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能......

铜蚀刻剂

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中文名：铜蚀刻剂英文名：Copper etchant货号：C487577产品介绍：铜喷涂蚀刻剂（CE-200）使用方便。建议操作温度为40-60℃，它用于喷涂蚀刻技术，在控制速率下可进行高精密度蚀刻。当蚀刻速率变低而不再符合要求时（即7-8盎司铜/加仑），可弃置旧液换用新鲜蚀刻液。在用CE-200蚀刻完毕后，喷水冲洗工件，而后以5-10%HCL（或草酸）冲洗......

陶瓷蚀刻剂 A

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中文名：陶瓷蚀刻剂 A英文名：Ceramic Etchant A货号：C487583产品介绍：应用用于氮化硅 (Si3N4)、氮化镓 (GaN) 或氧化铝 (Al2O3) 的快速可控蚀刻。查看阿拉丁官网此产品相关对应页面：https://www.aladdin-e.com/zh_cn/C487583.html产品目录：材料科学 > 电子材料 > 电子化学品和......

金蚀刻剂，标准

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中文名：金蚀刻剂，标准英文名：Gold etchant, standard货号：G433796产品介绍：金蚀刻剂是由碘化钾和碘组成的络合剂，通过电化学氧化金合成。 蚀刻容易控制，底切最小。室温下运行。无氰标准应用。25℃时腐蚀速率为 28 埃/秒。应用金蚀刻剂是选择性通用金蚀刻剂，可与负性和正性光致抗蚀剂相容。用于蚀刻金（Au）电极，随后用扫描电子显微镜（S......

金蚀刻剂，镍兼容

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中文名：金蚀刻剂，镍兼容英文名：Gold etchant, nickel compatible货号：G487585产品介绍：应用用于金的可选通用蚀刻剂。可与负性和正性光致抗蚀剂相容。查看阿拉丁官网此产品相关对应页面：https://www.aladdin-e.com/zh_cn/G487585.html查看相关系列：蚀刻剂产品目录：材料科学 > 电子材料 >......

镍铬蚀刻剂，标准

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中文名：镍铬蚀刻剂英文名：Nichrome etchant纯度：标准货号：N476103产品介绍：镍铬合金蚀刻剂是一种由硝酸铈铵和硝酸混合而成的高纯度蚀刻体系。它可以用来蚀刻镍和铬合金。应用镍铬合金蚀刻剂可用于制备聚二甲基硅氧烷（PDMS）、二氧化硅（SiO2）和玻璃基质的微加热器图形，从而进一步用于制备流量传感器。它还可用于从非晶硅片上电镀的镍中蚀刻出镍（......

钨蚀刻剂

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中文名：钨蚀刻剂英文名：Tungsten etchant货号：T487587产品介绍：钨腐蚀剂是一种基于氢氧化钾和铁氰化钾溶液的混合物，可通过将基底浸入蚀刻溶液中而有助于将钨和铝等材料进行去除。应用半导体和微电子技术中钨薄膜金属化的选择性蚀刻剂。蚀刻剂是缓冲式、温和碱性铁氰化物配方，提供高分辨率图案，具有最小切割和光刻胶兼容性。蚀刻剂可直接使用（不需要稀释）......

氮化钽蚀刻剂

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中文名：氮化钽蚀刻剂英文名：Tantalum nitride etchant货号：T487601产品介绍：应用在电子应用中可作为精确清洁地蚀刻钽、氮化钽和氧化钽薄膜和防蚀涂层的蚀刻溶液。查看阿拉丁官网此产品相关对应页面：https://www.aladdin-e.com/zh_cn/T487601.html产品目录：材料科学 > 电子材料 > 电子化学品和蚀......