电子刻蚀
岛津电子探针EPMAEPMA-1720系列可用于测定通信光纤 ，适用于EPMA测试项目。并且参考多项行业标准。可应用于电子/半导体行业领域。 光纤即光导纤维(Optical Fiber)，是以光脉冲的形式传输信号，材质以玻璃或有机玻璃为主的 网络传输介质。光纤通信是现代信息传输的重要方式之一。它具有重轻、通信容大、信号损耗 小传输距离长、保密性能好、不受电磁......
岛津电子探针EPMAEPMA-1720系列可以用在电子/半导体行业领域，用来检测通信光纤 ，可完成EPMA测试项目。符合多项行业标准。 光纤即光导纤维(Optical Fiber)，是以光脉冲的形式传输信号，材质以玻璃或有机玻璃为主的 网络传输介质。光纤通信是现代信息传输的重要方式之一。它具有重轻、通信容大、信号损耗 小传输距离长、保密性能好、不受电磁干扰以......
Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。 Microwriter ML3......
岛津X光电子能谱XPSAXIS SUPRA+可用于测定 膜材料 ，适用于其他 项目。并且参考多项行业标准/ VBA。可应用于多个行业领域。 岛津AXIS Supra具备全自动传样系统，样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪，单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析，低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析，20 kV最大......
岛津/Kratos X射线光电子能谱仪AXIS SUPRA+用于测定膜材料 ，符合行业标准/ VBA。适用其他 项目。 岛津AXIS Supra具备全自动传样系统，样品预抽时便可进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪，单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析，低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析，20 kV最大团簇能量可以保证无机......
产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。◇ 高通量 通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。◇&nbs......
产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。◇ 自动加工程序 快速加工和精抛加工可以程序化，短时间内就能制备出高质量的截面。此外，利用间歇加工模式，还能......
中文名：氢氟酸英文名：Hydrofluoric acid纯度：UPSS级, 单个金杂≤0.1ppb，49wt. % in H2O货号：H1523147Cas号：7664-39-3存储温度：室温产品介绍：查看阿拉丁官网此产品相关对应页面：https://www.aladdin-e.com/zh_cn/H1523147.html查看相关系列：无机酸 | 刻蚀 |......
中文名：氢氟酸英文名：Hydrofluoric acid纯度：UPSS级, 单个金杂≤0.1ppb，49wt. % in H2O货号：H1523147Cas号：7664-39-3存储温度：室温产品介绍：查看阿拉丁官网此产品相关对应页面：https://www.aladdin-e.com/zh_cn/H1523147.html查看相关系列：无机酸 | 刻蚀 |......
AEH系列单片湿法刻蚀设备，以精准化学刻蚀去除晶圆材料，具备高精度、低污染优势，适配 4-12 英寸晶圆，可用于优良封装、化合物半导体等多工艺场景。设备配置 2-8 chambers(可选)衬底材质 Si、SiC、GaAs、InP适用工艺 氧化硅/氮化硅刻蚀(SiOx/SiNx etch)、金属刻蚀/Metal etch(......