日立高新分析仪器
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC100......
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！ 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结......
日立分析仪器LIBSVulcan可用于测定材料，适用于元素分析项目。并且参考多项行业标准。可应用于电子/半导体行业领域。 激光诱导击穿光谱（LIBS）和X射线荧光（XRF）手持式光谱仪均结构紧凑、易于使用、检测速度快。材料可通过扣动扳机进行鉴别，操作就是这么简单。 通常，成本是做出决策的关键因素，特别是考虑到长期管理费用时。当两种产品价格相等且使用寿命相近时......
日立分析仪器手持式 LIBS 激光光谱仪—Vulcan可用于测定材料，适用于元素分析项目。并且参考多项行业标准。可应用于地矿/有色金属行业领域。 激光诱导击穿光谱（LIBS）和X射线荧光（XRF）手持式光谱仪均结构紧凑、易于使用、检测速度快。材料可通过扣动扳机进行鉴别，操作就是这么简单。 通常，成本是做出决策的关键因素，特别是考虑到长期管理费用时。当两种产品......
日立分析仪器LIBSVulcan可以用在地矿/有色金属行业领域，用来检测废旧金属，可完成元素分析项目。符合多项行业标准。 由于中国回收行业的重点转移到了材料纯度方面，因此拥有合适的设备来确保实现可靠的分拣流程是一项关键任务。日立分析仪器的业务开发经理任向东先生对此类设备选择给出建议。 政府正努力创造一个更加干净的环境，因此出台了旨在减少污染的措施，其中包括对......
日立分析仪器手持式 LIBS 激光光谱仪—Vulcan用于测定金属，符合行业标准。适用QA和QC项目。 可靠产品是由手持式 LIBS 市场上zei有经验的人开发的第二代仪器。特征使用方便与“对准—拍摄”分析相结合的直观用户界面，减少乃至去除与用户相关的错误。Advanced data management可以将所有的结果转并存到我们云服务，同时使用我们市场......
日立分析仪器移动式直读光谱仪 PMI-MASTER Pro可用于测定金属，适用于QA和QC项目。并且参考多项行业标准。可应用于地矿/有色金属行业领域。 移动式直读光谱仪从废旧金属中的杂质元素的分析、来料检测，到铸造过程中的质量控制以及成品检测，连贯的质量控制在整个金属加工行业中都至关重要。直读光谱法(OES) 是用于确定各种金属的元素组成的非常值得信赖和广......
日立高新推出的扫描电镜SU3800/SU3900兼具操作性和扩展性，结合众多的自动化功能，可高效发挥其高性能。SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察。产品特征SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察（1）样品台可搭载超大/超重样品• 通过更换样品提示，可防止由于与样品的接触而损坏设备或样品• 选配样品交换仓，可在主样品仓保持真空......
简介日立高新磁控溅射器(MC1000)采用电磁管电极，能有效减轻对样品的损伤并实现均匀涂覆，适用于高分辨率扫描式电子显微镜。设备支持最大样品直径60mm，高度20mm，配备LCD触摸屏便于操作，具备记忆功能存储常用条件，并可选配处理较大样品的配件。 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁......
核心参数仪器种类：台式/桌面型电子枪种类：钨灯丝二次电子图象分辨率：4.0 nm @ 20 kV （高真空模式），15.0 nm @ 1 kV （高真空模式）放大倍数：6× ～ 300,000× （底片倍率），16× ～ 800,000× （显示倍率）加速电压：0.3 kV ～ 20 kV背散射电子图像分辨率：5.0 nm @ 20 kV （低真空模式 ）简......