离子溅射仪 喷金仪
多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台，满足各种高精度的喷金或电生长需求。除了溅射金属电外，nanoEM还具有大的拓展空间，虽然作为台式设备，nanoEM配备了输出功率可达300W的溅射源，系统还可选择样......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微......
Agar镀膜仪喷金仪B7341 【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm ......
扫描电镜 SEM 不导电样品需要用 镀金机 离子溅射仪 镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/......
产品型号：Agar镀膜仪喷金仪B7341 原产地： 英国【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯, 银等靶材尺寸......
磁控式 离子溅射仪 采用了一个平板控制电极，通过低电压放电进 行磁控溅射的喷镀。【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构（可选150mm x 165mm）样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩溅射靶材金（标配），铂，金/钯，铂/钯,&......
磁控溅射仪是一种利用物理气相沉积的方法在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au），钯（Pd），铂（Pt）和金/钯（Au / Pd）薄膜的设备，常用于扫描电镜（SEM）的样品制备以及电极制备。它可在较短时间内形成具有细粒度的均匀薄膜，最常见的靶材是金靶，所以磁控溅射仪也俗称“喷金仪”。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度......
一、VC－100型喷碳仪性能概述 VC－100 喷碳仪主要是为钨灯丝扫描电子显微镜的样品制备而设计的专业喷碳仪. 其主要部件包括: 样品室 真空系统 ......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH，采用高强度不锈钢结构（也可选150mm×165mm）。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台，高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管，靶材更换快速。可使用直径为57mm×0.1mm厚度的溅射靶材，如环绕暗区护罩溅射的金、铂、金/钯、铂/钯、银等靶材。溅射控制系统采用微处理器控制，可以远程感应电......
