日本电子株式会社2010年7月zei新推出了冷场发射双球差校正原子分辨和分析型透射电镜。传统的冷场发射技术稳定性差,亮度低,无法保证透射电镜的使用需求。日本电子株式会社zei新开发的冷场发射技术解决了这些问题,并把该技术加入到zei新球差校正透射电镜ARM200F序列里。使ARM200F在保证亚纳米分辨率0.078nm的同时,能量分辨率提高到0.3eV,极大......
透射电镜使用电子穿透样品成像,实际上入射电子在穿越样品时会与样品发生复杂的相互作用,如果使用全部的透射电子成像,必然在细节上出现假象、失真甚至某些信息被掩盖。JEM-2200FS采用欧米伽能量过滤器,让透过电子穿过欧米伽形状的电磁透镜系统,具有不同电子的能量将被展开,我们可以选择零损失电子成像,还可以专门突出某种原子成像,非常方便......
2016年新年伊始,日本电子株式会社(JEOL)即全球同步推出了新款场发射透射电镜JEM-F200。 为了全面整合近年发展起来的透射电镜上的各种功能,JEM-F200进行了全新设计,在保障各种功能达到极限的同时,追求操作的简单化和自动......
透射电镜使用电子穿透样品成像,实际上入射电子在穿越样品时会与样品发生复杂的相互作用,如果使用全部的透射电子成像,必然在细节上出现假象、失真甚至某些信息被掩盖。JEM-2200FS采用欧米伽能量过滤器,让透过电子穿过欧米伽形状的电磁透镜系统,具有不同电子的能量将被展开,我们可以选择零损失电子成像,还可以专门突出某种原子成像,非常方便......
产品规格物镜种类*1极高分辨率(UHR)型高分辨率(HR)型样品高倾斜(HT)型样品冷却(CR)型高衬度(HC)型分辨率 点分辨率晶格分辨率0.19 nm0.1 nm0.23 nm0.1 nm0.25 nm0.1 nm0.27 nm0.14 nm0.31 nm0.14 nm能量分辨率0.8 eV(零损失 FWHM)加速电压160 kV,200 kV*2电子枪......
透射电镜使用电子穿透样品成像,实际上入射电子在穿越样品时会与样品发生复杂的相互作用,如果使用全部的透射电子成像,必然在细节上出现假象、失真甚至某些信息被掩盖。JEM-2200FS采用欧米伽能量过滤器,让透过电子穿过欧米伽形状的电磁透镜系统,具有不同电子的能量将被展开,我们可以选择零损失电子成像,还可以专门突出某种原子成像,非常方便。与此同时还可以......
日本电子株式会社2010年7月zei新推出了冷场发射双球差校正原子分辨和分析型透射电镜。传统的冷场发射技术稳定性差,亮度低,无法保证透射电镜的使用需求。日本电子株式会社zei新开发的冷场发射技术解决了这些问题,并把该技术加入到zei新球差校正透射电镜ARM200F序列里。使ARM200F在保证亚纳米分辨率0.078nm的同时,能量分辨率提高到0.3eV,极大......
2016年新年伊始,日本电子株式会社(JEOL)即全球同步推出了新款场发射透射电镜JEM-F200。 为了全面整合近年发展起来的透射电镜上的各种功能,JEM-F200进行了全新设计,在保障各种功能达到极限的同时,追求操作的简单化和自动化,为用户提供透射电镜操作的全新体验。具体特点表现为:......
外观设计精炼精炼的外型,全新的视觉感受。为分析型电镜全新设计的GUI,使操作更加直观方便。JEOL长年积累的丰富经验在设计上得到了充分的体现,与旧机型相比,电镜的机械性和电气稳定性都得到了很大的提高。四级聚光镜系统现在的电子显微镜需要支持范围广泛的成像技术--- 从明场/暗场的TEM成像到使用各种检测器的STEM技术。 该设备采用新型四级聚光镜照射光学系统-......
赛默飞200 kV场发射透射电镜Talos F200i TEM 高质量、高分辨率的 (S)TEM 成像和灵活的 EDS 可使用高分辨率、高亮度(冷)场发射枪 可提供双 EDS,以获得较高的分析通量Talos F200i TEM用于高通量、高分辨率化学表征和动态观察的 TEM 和 STEM 分析。Talos F200i 透射电子显......