镀膜机用电量
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于纳米材料行业领域。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用......
点击查看下载德国 镀膜仪 EM ACE200镀膜机徕卡 样本相关资料，进一步了解产品。 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。 配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后，可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果，实现了一台EM ACE200具有喷金仪，喷碳仪，蒸镀仪三......
点击查看下载徕卡镀膜机Leica EM ACE600 样本相关资料，进一步了解产品。 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。 Improve sample preparation by optimal coating高真空镀膜机 Leica EM ACE600......
德国 镀膜仪 EM ACE200镀膜机徕卡 标准有特定规范与标准，应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更......
点击查看下载德国 镀膜仪 EM ACE200镀膜机徕卡 样本相关资料，进一步了解产品。 徕卡全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂、冷冻镀膜。 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有过......
点击查看下载徕卡镀膜机Leica EM ACE200 应用于微生物相关资料，进一步了解产品。 全新一代ACE系列镀膜仪是徕卡与前沿科学家合作研发的结晶，它涵盖了您在样品制备过程中所需的多种镀膜需求，从常温镀膜到冷冻断裂/冷冻镀膜。 低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层，之前从未有......
LeicaEMACE600 高真空镀膜机通过最佳涂层改善样品制备。LeicaEMACE600 是为TEM和FE-SEM分析而设计的最高分辨率的多功能高真空薄膜沉积系统。它被设计用来生产非常薄、细致和导电的金属和碳涂层，以用于最高分辨率的分析，以满足您的FE-SEM和TEM应用需求。该高真空镀膜机可使用溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电进行配置。L......