离子溅射仪的喷金原理

多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台,满足各种高精度的喷金或电生长需求。除了溅射金属电外,nanoEM还具有大的拓展空间,虽然作为台式设备,nanoEM配备了输出功率可达300W的溅射源,系统还可选择样......

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H,高强度不锈钢结构(可选150mm x 165mm)样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台,高度可在 60mm内调节溅射头低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯, 银等靶材尺寸直径57mm x 0.1mm 厚度溅射控制系统微......

磁控溅射仪是一种利用物理气相沉积的方法在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)薄膜的设备,常用于扫描电镜(SEM)的样品制备以及电极制备。它可在较短时间内形成具有细粒度的均匀薄膜,最常见的靶材是金靶,所以磁控溅射仪也俗称“喷金仪”。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度......

一、VC-100型喷碳仪性能概述   VC-100 喷碳仪主要是为钨灯丝扫描电子显微镜的样品制备而设计的专业喷碳仪. 其主要部件包括: 样品室 真空系统 ......

  型号:EMS150T  S 简介: 分子涡轮高真空系统,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,可镀多种膜材,也可镀相对较厚的膜。具有快速溅射易氧化和不氧化金属(贵金属)靶材的功能,可选各种溅射靶材,包括常用于场发射电镜的铱和铬。   可选配一系列可选附件,如:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。 标准配置的样品台,无......

一、VC-100型喷碳仪性能概述VC-100 喷碳仪主要是为钨灯丝扫描电子显微镜的样品制备而设计的专业喷碳仪.其主要部件包括:样品室真空系统喷碳及控制系统二、VC-100型喷碳仪性能介绍真空泵连接真空室,控制单元提供电压,机械泵抽气速率50L/分。 主机的真空室含有喷碳头,玻璃罩样品底座。"O"型密封封闭真空系统,工作时发真空度......

进口品牌高性能旋片泵产生一个洁净的<1 Pa的真空压强,通常抽真空时间小于3-5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源,确保恒定沉积速率。磁控阴极的使用也有效减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于追求更高分辨率SEM 扫描电镜样品的喷金用途。触摸屏控制,即插即用。......

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH,有高强度不锈钢结构(也可选150mm×165mm)。样品台尺寸可以容纳12个标准钉形样品台,高度可以在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,可以快速更换靶材,环绕暗区有护罩。溅射靶材包括金(标配)、铂、金/钯、铂/钯、银等,直径为57mm×0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制,可以远程电流......

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mmx120mmH,高强度不锈钢结构(可选150mmx165mm)。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台,高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,靶材更换快速。可使用环绕暗区护罩溅射靶材金(标配),铂,金/钯,铂/钯,银等靶材,直径57mmx0.1mm厚度。溅射控制系统采用微处理器控制,支持远程电流/电压感应;最......

【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH,采用高强度不锈钢结构(也可选150mm×165mm)。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台,高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管,靶材更换快速。可使用直径为57mm×0.1mm厚度的溅射靶材,如环绕暗区护罩溅射的金、铂、金/钯、铂/钯、银等靶材。溅射控制系统采用微处理器控制,可以远程感应电......

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