日本日立高新光谱仪
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter ......
新品详情 上市时间：2012年11月 创新点:高画质的钨灯丝扫描电镜, 图象质量更进一步。 通过高画质提升扫描电镜的分析能力和操作性, 凝聚日立zei先进科技“独具匠心”。日立高新钨灯丝扫描电镜SU3500具有实现了“3kV加速电压7nm分辨率”的全新电子光学系统, 可实现实时立体成像的“实时立体观察功能”＊1, 以及更高检......
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC100......
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！ 日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置： 断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结......
“先进的SEM更为紧凑”宽幅仅为45 cm的紧凑型的设计，仍具备4.0 nm的图像分辨率。全新开发的用户界面和电子光学系统让您深切体验其高性能。特点FlexSEM 1000 II，凭借全新设计的电子光学系统和高灵敏度检测器，可在加速电压20 kV下实现4.0 nm的分辨率。全新开发的用户界面，具有亮度和对焦自动调节功能，可以在短时间内进行各种观察。此外，还搭......
高性价比的金属分析OE720是突破性的OES金属分析仪。其涵盖了金属*元素的全部光谱，并具有同类产品中较低的检出限。由于行业法规日益严格，供应链变得复杂以及更多地使用废料作为基础材料，因此铸造厂和金属制造商必须将杂质和痕量元素控制在很低的ppm范围内。在过去，这一级别的OES对许多企业而言是遥不可及。日立分析仪器推出的OE系列可改变这一现状。日立直读光谱仪可......
40 多年来，Rigaku Simultix 同步波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 光谱仪系统已被广泛用作需要高吞吐量和精度的行业（例如钢铁和水泥）过程控制的元素分析工具。近 1,000 台 Simultix 波长色散X射线荧光光谱仪已交付给全球客户。随着这些年的技术进步，客户的要求也变得先进和多样化。Simultix 15 波长色散X射线荧光光谱仪专......
日立高新推出的扫描电镜SU3800/SU3900兼具操作性和扩展性，结合众多的自动化功能，可高效发挥其高性能。SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察。产品特征SU3900标配多功能超大样品仓，可应对大型样品的观察（1）样品台可搭载超大/超重样品• 通过更换样品提示，可防止由于与样品的接触而损坏设备或样品• 选配样品交换仓，可在主样品仓保持真空......
简介日立高新磁控溅射器(MC1000)采用电磁管电极，能有效减轻对样品的损伤并实现均匀涂覆，适用于高分辨率扫描式电子显微镜。设备支持最大样品直径60mm，高度20mm，配备LCD触摸屏便于操作，具备记忆功能存储常用条件，并可选配处理较大样品的配件。 日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁......
核心参数仪器种类：台式/桌面型电子枪种类：钨灯丝二次电子图象分辨率：4.0 nm @ 20 kV （高真空模式），15.0 nm @ 1 kV （高真空模式）放大倍数：6× ～ 300,000× （底片倍率），16× ～ 800,000× （显示倍率）加速电压：0.3 kV ～ 20 kV背散射电子图像分辨率：5.0 nm @ 20 kV （低真空模式 ）简......