icp8300高频电源
RF-120系列高频电源是溅射、刻蚀、CVD、离子镀等薄膜制备/加工使用的、用于生成等离子体的13.56MHz高频电源（RF电源）。特性：A high-frequency power supply (RF power supply) creating 13.56 MHz plasma for thin-film processing and etching,......
这是用于等离子体生成的13.56MHz高频电源（RF电源），用于溅射、蚀刻、CVD和离子镀等薄膜制造和加工。RF-120系列是多功能电源，标配DeviceNet，RS232C和模拟接口，以及模式操作，弧形切割/计数功能，过去数据存储等。 我们还提供可与每个电源组合的匹配设备（匹配网络）。特点根据模式操作射频电源内的预设输出和时间数据自动控制输出 每个模式最多......
RF-120系列是多功能电源，标配DeviceNet，RS232C和模拟接口，以及模式操作，弧形切割/计数功能，过去数据存储等。 我们还提供可与每个电源组合的匹配设备（匹配网络）。特点根据模式操作射频电源内的预设输出和时间数据自动控制输出 每个模式最多可设置 5 个点圆弧切割功能电弧计数功能计算电弧出现的次数，并在达到设定次数时停止输出。脉冲操作（可选）脉冲......
特点根据模式操作射频电源内的预设输出和时间数据自动控制输出 每个模式最多可设置 5 个点圆弧切割功能电弧计数功能计算电弧出现的次数，并在达到设定次数时停止输出。脉冲操作（可选）脉冲周期：100Hz~10kHz，占空比：20~80%*脉冲发生器需单独使用同步运行 连接到其他高频电源，可以同步运行启动慢/减速反射限幅器延续限制测量自反射功率限制器运行以来经过的时......
使用示例规格和选项射频-12010射频-12020射频-12030射频-12040最大功率输出输出连接器输入电压输入电流振荡方式振荡频率输出稳定性脉动谐波失真冷却方式外部尺寸（毫米）宽度深度高度重量（公斤）750瓦1.5千瓦3千瓦6千瓦N型LS2交流 200V ±10V，三相，50/60 Hz交流 5A交流 8A交流 20A交流 35A其他激发晶体振荡13.......
规格和选项射频-12010射频-12020射频-12030射频-12040最大功率输出输出连接器输入电压输入电流振荡方式振荡频率输出稳定性脉动谐波失真冷却方式外部尺寸（毫米）宽度深度高度重量（公斤）750瓦1.5千瓦3千瓦6千瓦N型LS2交流 200V ±10V，三相，50/60 Hz交流 5A交流 8A交流 20A交流 35A其他激发晶体振荡13.56兆赫......
PowerEase Touch 电源的特点 LCD 触摸屏——可通过清晰的菜单提示，轻松进行编程和查看运行进度 预设了多种 Invitrogen 凝胶的应用程序——节省时间，降低出错概率& 轻松编程和存储多步程序——操作简单，易于上手 精确的电压、电流和功率输出——帮助获得高重复性结果 现代化的可叠放设计——节......
