dls仪器
主要特点：颗粒尺寸测量：前所未有的分辨率由于固件采用了非常先进的算法，因此可以精确测量单一悬浮液中几种不同的颗粒尺寸。可自动测量连续的透射比通过透光率，您可以立即获得样品反馈并自动优化测量参数（角度、聚焦位置和测量持续时间）。 简单智能的软件 - Kalliope™Kalliope™ 提供一页式工作流，输入参数、测量和分析唾手可得。此外，Kalli......
Litesizer DLS 系列只需一键触摸即可表征纳米和微米粒子。借助这些动态光散射仪器，您可以在较宽的浓度范围内测定分散体中的颗粒以及溶液中的肽或大分子，从而缩短样品制备时间。关键功能得益于完美的角度选择 - 无论您的样品如何通过多角度粒度测定 (MAPS) 确保实现不同大小群体的高分辨率从三个检测角度（侧向、后向或前向散射）中进行选择，以实现最佳参数设......
结合光片与共聚焦技术 Leica TCS SP8 DLS - 将两种专用成像系统的优势合二为一：使用 Leica TCS SP8 DLS (数字光片)，您可在显微镜上使用柔和的单平面照明实现完全的共聚焦。通过研制出 TwinFlect 反光镜，我们就能将共聚焦平台 Leica TCS SP8 变为简单易用的多功能光片显微镜。 我们转向采用光片垂直......
Colloid Metrix NANO-flex II纳米粒度分析仪-180°（DLS）
参考成交价格： 暂无
Colloid Metrix（CMX） 激光粒度仪、纳米粒度仪
型号：NANO-flex II
德国Colloid Metrix公司是一家专业研发和制造表征交替特征的仪器公司。在胶体配方分析方面， CMX公司的Stabino，Zeta-check和Nano-Flex为用户提供了全新的流动/Zeta电位和粒度的测量方法，同时Stabino配合Nano-Flex还提供多种滴定功能，可以实现不同PH值, 不同浓度的盐溶液以及聚电解质的溶液体系中颗粒的大小和Z......
Colloid Metrix NANO-flex II纳米粒度分析仪-180°（DLS） 不同PH值
参考成交价格： 暂无
Colloid Metrix（CMX） 激光粒度仪、纳米粒度仪
型号：NANO-flex II
180°DLS的测量原理激光通过光纤和蓝宝石窗口聚集在样品上。窗口会反射部分入散光。激光的反射光和散射光在检测器上被测量。信号的波动部分是由于颗粒的布朗扩散所致。通过快速的傅里叶变换算法转换为能谱，并同激光自身的频率做对比。无需假设任何的分布模型，粒径分布直接从能谱数据中计算而来。180°DLS的应用具备DLS方法的NANO-flex II几乎是无......
Colloid Metrix NANO-flex II纳米粒度分析仪-180°（DLS） Zeta电位的变化
参考成交价格： 暂无
Colloid Metrix（CMX） 激光粒度仪、纳米粒度仪
型号：NANO-flex II
180°DLS的特点• 光路可以测量（＜0.3μm），意味着无多重散射的干扰；即使不透明的样品仍然可以测定• 样品浓度可达40%v/v• 粒径测试结果不会因为浓度的改变而改变• 在同一测试中，具备高动态范围和高分辨率• 可以实现原位测试，无需稀释180°DLS的测量原理激光通过光纤和蓝宝石窗口聚集在样品上。窗口会反射部分入散光。激光的反射光和散射光在检测器上......
将共聚焦与光片显微成像技术相结合，探索新应用领域数字光片显微镜 STELLARIS DLS——徕卡显微系统采用独特的设计方法，使您可以在一个系统中进行共聚焦和光片成像， 实现柔和的单平面照明。 我们的数字光片系统(DLS)采用垂直设计，可以集成到 STELLARIS 5 和 STELLARIS 8 系统中，也可以作为两种系统的升级。 这样，您就可以受......
点击查看下载DMA 4100/4500/5000 M密度计安东帕 动态光散射DLS测量胶束粒径中: 粘度的重要性相关资料，进一步了解产品。 DLS测量中用到斯托克-爱因斯坦方程，动态粘度是此方程的一个参数。对一些样品来说，采用溶剂的动态粘度来进行计算是可接受的，但当颗粒对悬浮液的粘度影响很大时，采用溶剂的粘度就会对DLS结果造成相当大的偏差。两亲性表面活性剂......
点击查看下载SurPASS 3安东帕Zeta电位 不同低聚糖铁纳米颗粒的DLS、ELS和SAXS表征相关资料，进一步了解产品。 DLS和SAXS是高度互补的颗粒分析技术，能够分别表征颗粒的粒径分布及颗粒形状、核-壳结构等信息。此外，可以通过ELS技术测量颗粒的表面电荷，从而得到有关胶体稳定性的有关数据。此报告通过表征用于静脉治疗的不同铁—碳复合物，突出了这三......
激光共聚焦徕卡Leica TCS SP8 DLS 标准有特定规范与标准，应用于多个行业领域。点击查看相关规范标准。 由于涂层在工程和科学领域中广泛应用，因此薄膜表征技术备受青睐。薄膜的机械、功能和几何特 性差异很大，难以找到通用的表征技术。共聚焦显微镜技术和干涉光学分析是可以用于这方面的少 数方法之一。本报告介绍如何测量各种薄膜的厚度、残余应力、粘附力和粗糙......