zeiss扫描电镜原理
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真空安全联锁装置，配有过流保护；模拟计量真空 Atm - 0.001mb &n......
Agar镀膜仪喷碳仪B7367A【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真空安全联锁装置，配有过流保护；模拟计量真空 ......
扫描电镜 SEM 不导电样品需要用 镀金机 离子溅射仪 镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真......
喷金仪 镀膜仪 是为 SEM 的样品制备而设计的喷金仪，为 样品表面喷金属镀层。【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数字控制；提供真空安全......
Agar镀膜仪喷碳仪B7367A 能谱EDS/EBSD分析镀膜仪 喷金仪 进行样品前处理【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸120mm ? x 120mm H，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，高度可在 30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应；最大电流180A，程序化数......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm x 120mmH，样品台为高强度不锈钢结构，可容纳12个标准钉形样品台，高度可在30mm内调节。蒸镀源为高纯度碳棒，直径为6.15mm。蒸镀控制系统采用微处理器控制，可以实现远程电流/电压感应，最大电流为180A。此外，系统还提供真空安全联锁装置和过流保护。真空范围为Atm-0.001mb，电流范围为0–200A。......
【技术参数】样品间玻璃腔体尺寸120mm×120mmH，高强度不锈钢结构样品台尺寸可放置12个标准钉形样品台，可在30mm内调节蒸镀源高纯度碳棒，直径6.15mm，蒸镀控制系统微处理器控制，远程电流/电压感应，最大电流180A，程序化数字控制，提供真空安全联锁装置，过流保护，模拟计量真空Atm-0.001mb，电流:0–200A控制方式自动蒸镀控制，可选择手......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH，采用高强度不锈钢结构样品台，可容纳12个标准钉形样品台，样品台高度可在30mm内调节。蒸镀源采用高纯度碳棒，直径为6.15mm，蒸镀控制系统为微处理器控制，支持远程电流/电压感应，最大电流为180A，支持程序化数字控制，配备真空安全联锁装置和过流保护，模拟计量真空范围为Atm-0.001mb，电流范围......
【技术参数】样品室玻璃腔体尺寸为120mm×120mmH，采用高强度不锈钢结构（也可选150mm×165mm）。样品台尺寸可容纳12个标准钉形样品台，高度可在60mm内调节。溅射头为低电压平面磁控管，靶材更换快速。可使用直径为57mm×0.1mm厚度的溅射靶材，如环绕暗区护罩溅射的金、铂、金/钯、铂/钯、银等靶材。溅射控制系统采用微处理器控制，可以远程感应电......
ZEISS ΣIGMA 电镜为肖特基（Schottky）热场发射扫描电镜。目前欧美地区比较推崇热场发射电镜，而日本较热衷于冷场发射电镜。该场发射扫描电镜主要有如下特点：1.探针电流较大，可达20nA（100nA可选），可容易进行BSE、EDS、WDS、EBSD、CL等分析。而一般冷场发射探针电流达不到这个数量级，有些分析工作（如WDS、EBSD、CL等）在冷......