冠层分析仪器
我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通过打造质量满足生产需求。PlasmaPro 100 ALE 的特点:准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工......
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵......
上世纪九十年代，随着半导体工业的兴起，对各种元器件尺寸，集成度等方面的要求越来越高，原子层沉积技术才迎来发展的黄金阶段。进入21世纪，随着适应各种制备需求的商品化ALD仪器的研制成功，无论在基础研究还是实际应用方面，原子层沉积技术都受到人们越来越多的关注。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等......
牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于电子/半导体行业领域。 半导体制造解决方案 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Nano Material的检测。可以用在生物质材料行业领域中的Nano Material项目。 纳米材料生长和表征 我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE可以用在高分子材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工......
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工最大2......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的Power Semiconductors项目。 失效分析 我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPr......
安捷伦红外4300可以用在多个行业领域，用来检测现代镀膜，可完成三层体系分析项目。符合多项行业标准。 产品特性：● 主要应用领域：高校科研、光学材料生产● 高级材料的无损检测● 采用人体工程学设计，简单易用，可实现zei优的数据管理● 自动识别的可互换采样接口高度灵活，便于随身携带● DTGS 检测器：对于常规分析，配备 DGTS 检测器的 43......