pld脉冲沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器，光......
品牌:牛津仪器型号:Ionfab300产地:欧洲Ionfab 300 IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现， 因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，......
仪器简介： PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我们PLD系统拥有zei好的性能价比,具有以下优异的性能: 主真空室腔体直径......
美国SVT公司PLD脉冲激光沉积系统用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验，我公司为许多科研用户独立打造了PLD-MBE连用系统，PLD-UHV Suptter连用系统等。 应用： ZnO材料功能薄膜 STO薄膜 金属薄膜 超导薄膜 铁电功能薄膜 功能......
仪器简介：脉冲激光沉积（PLD）简介 美国PVD公司为客户提供优质的薄膜沉积设备，特别是大面积脉冲激光沉积(PLD)系统，还包括沉积元件如靶材操纵器和智能视窗等，另外可为客户订制激光分子束外延设备(L-MBE)。 根据客户的不同需求，提供以下型号： 1．小面积PLD系统，也就是NANO-PLD型，该系统简单、紧凑，具有多种功能，非常适合小型的研发......
仪器简介： 应用： -Focusing the high power pulsed laser beam to strike a target -Oxide compound deposition in oxygen atmosphere -铁磁 / 电介体 / 磁阻抗材料沉积技术参数： 腔形状 : ......
脉冲激光沉积系统(PLD)、激光分子束外延设备(L-MBE) 设备简介：产地：美国NBMPLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。 我司PLD特点：我们PLD系统拥......
产品简介Pioneer120 PLD System是基础型独立PLD系统，用于制备高质量的外延薄膜、多层异质结、超晶格等。该PLD系统与Pioneer 120 Advanced系统和Pioneer 180 PLD系统的主要区别是衬底加热阶段。Pioneer 120 Advanced系统使用导电加热阶段用于衬底加热， 其他模型使用辐射加热阶段。为了达......
产品简介Pioneer 180 PLD系统是一款用于在各种衬底上制备多种材料的高质量外延薄膜、多层异质结构和超晶格的交钥匙PLD系统。该PLD系统与 Pioneer 120 Advanced PLD System系统的主要区别在于，具有更大的沉积模块，有助于 Pioneer 120 Advanced PLD System可能有限的一些升级。Pioneer 1......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准脉冲激光沉积 PLD-18L上海伯东代理脉冲激光沉积设备 PLD-18L, 它可以与溅射枪, 积液池, 高压流变, 激光束控制相结合, 可以放置 8×1 英寸的样品或 4×2 英寸的样品, 在真空状态下通过 load lock chamber 进行更换, 使用高速激光扫描仪, 可以很......