离子溅射仪喷金

多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台,满足各种高精度的喷金或电生长需求。除了溅射金属电外,nanoEM还具有大的拓展空间,虽然作为台式设备,nanoEM配备了输出功率可达300W的溅射源,系统还可选择样......

SBC-12小型离子溅射仪

参考成交价格: 3万元[人民币]

中科科仪 离子溅射仪

型号: SBC-12

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SBC-12小型离子溅射仪产品特点:特殊密封结构,玻璃不易损坏操作方便,无需培训即可使用维护成本低,无需上门安装技术指标:真空系统两级直联旋片真空泵真空检测皮氏计真空保护配有微量充气阀,用于调节离子流的大小工作气体空气或氩气产品尺寸工作腔室:内径Ф100 x 130毫米载物台:小载物台直径Ф40毫米, 可同时放六个样品杯;大载物台直径Ф60毫米金靶尺寸:Ф5......

产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易损伤专利结构,样品台高度调整方便内置操作向导,无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等技术指标工作方式:磁控溅射外形尺寸:424(L)×271(D)×255(H)m......

磁控溅射仪是一种利用物理气相沉积的方法在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)薄膜的设备,常用于扫描电镜(SEM)的样品制备以及电极制备。它可在较短时间内形成具有细粒度的均匀薄膜,最常见的靶材是金靶,所以磁控溅射仪也俗称“喷金仪”。产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度......

一、VC-100型喷碳仪性能概述   VC-100 喷碳仪主要是为钨灯丝扫描电子显微镜的样品制备而设计的专业喷碳仪. 其主要部件包括: 样品室 真空系统 ......

  型号:EMS150T  S 简介: 分子涡轮高真空系统,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,可镀多种膜材,也可镀相对较厚的膜。具有快速溅射易氧化和不氧化金属(贵金属)靶材的功能,可选各种溅射靶材,包括常用于场发射电镜的铱和铬。   可选配一系列可选附件,如:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。 标准配置的样品台,无......

 SD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;       特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大;       前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;       调节溅射电流大小,成膜速度快,......

一、VC-100型喷碳仪性能概述VC-100 喷碳仪主要是为钨灯丝扫描电子显微镜的样品制备而设计的专业喷碳仪.其主要部件包括:样品室真空系统喷碳及控制系统二、VC-100型喷碳仪性能介绍真空泵连接真空室,控制单元提供电压,机械泵抽气速率50L/分。 主机的真空室含有喷碳头,玻璃罩样品底座。"O"型密封封闭真空系统,工作时发真空度......

    SD-900 型离子溅射仪外观亮丽,做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。      工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空......

进口品牌高性能旋片泵产生一个洁净的<1 Pa的真空压强,通常抽真空时间小于3-5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源,确保恒定沉积速率。磁控阴极的使用也有效减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于追求更高分辨率SEM 扫描电镜样品的喷金用途。触摸屏控制,即插即用。......