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精研一体机 Leica EM TXP徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能，是用锯，磨，铣削，抛光样品后，供电子显微镜，和LM技术检测。带有一体化体视镜，用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察；使用样品旋转手柄，可以改变样品观察角度，0°－60°可调，或者垂直于样品前表面90°观察，可利用目镜刻度标尺测量距离。For res......
IB-19520CCP 截面样品制备装置IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却，能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下，也能将样品快速冷却、恢复到室温，并且可以拆卸。配有传送机构，在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。产品特点：★ 冷却的效果 样品：镀锌钢板可提供500μm/h（8KV/2小......
IB-19530CP 截面样品制备装置为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子......
Verios XHR SEMVerios 是 FEI 领先的 XHR（极高分辨率）SEM 系列的第二代产品。在尖端半导体制造和材料科学应用中，它可在 1 至 30 kV 范围内提供亚纳米量级分辨率以及增强的对比度，满足材料精密测量所需，同时又不会削弱传统扫描电子显微镜 (SEM) 所具有的高吞吐量、分析能力、样本灵活性和易用性等优势。Verios 的生命科学......
精研一体机 Leica EM TXP——徕卡EM TXP 标靶面制备系统具有定点修块抛光功能，是用锯，磨，铣削，抛光样品后，电子显微镜，和LM技术检测。带有一体化体视镜，用于精确定位及对较细微难以观察的目标位置进行样品处理时观察；使用样品旋转手柄，可以改变样品观察角度，0°－60°可调，或者垂直于样品前表面90°观察，可利用目镜刻度标尺测量距离。For re......
IB-19530CP 截面样品制备装置为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子......
产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。◇ 高通量 通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。◇&nbs......
IB-19520CCP 截面样品制备装置IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却，能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下，也能将样品快速冷却、恢复到室温，并且可以拆卸。配有传送机构，在隔离空气的环境下能完成从加工到观察的全过程。产品特点：★ 冷却的效果 样品：镀锌钢板可提供500μm/h（8KV/2小......
点击查看下载Prisma E SEM扫描电子显微镜扫描电镜 工业中的 SEM 和 EDS 分析相关资料，进一步了解产品。 随着工业过程复杂化的增加，需要更严格、更高质量的分析，以确保产品符合所有质量和可靠性标准。由于扫描电镜（SEM）可以提供样品表面微观结构的详细（纳米级）信息，因此已成为实验室进行现代研发以及失效分析和故障排除的常用工具。扫描电镜通常与 X......
点击查看下载赛默飞（原FEI) Verios XHR SEM 工业中的 SEM 和 EDS 分析相关资料，进一步了解产品。 随着工业过程复杂化的增加，需要更严格、更高质量的分析，以确保产品符合所有质量和可靠性标准。由于扫描电镜（SEM）可以提供样品表面微观结构的详细（纳米级）信息，因此已成为实验室进行现代研发以及失效分析和故障排除的常用工具。扫描电镜通常与 ......