超快速元素深度剖析：辉光放电光谱仪 GD-Profiler 2™

2023-10-16 13:43:14, HORIBA HORIBA科学仪器事业部

辉光放电光谱仪.png

产品名称：辉光放电光谱仪

产地：法国

型号：GD-Profiler 2™

仪器用途及应用范围：

GD-Profiler 2™ 配备的射频源可在脉冲模式下对易碎样品进行测试，广泛应用于高校以及工业研究实验室，其应用范围有腐蚀研究、PVD 涂层工艺控制、PV 薄膜开发以及LED 质量控制等。

能源/光伏

光伏镀层沉积工艺
光伏镀层层间扩散
光伏电池的表面及成分
快速深度剖析

先进功能材料

LED 晶片质量控制
半导体新材料镀层解析
硬盘、玻璃和陶瓷等表面镀层分析

汽车

镀锌钢板镀层厚度及成分
彩涂板有害元素测定
监控渗氮渗碳工艺过程
磷化/ 钝化膜测定等

电池

锂电池电极/ 电解液材料表征分析
充/ 放电后元素浓度变化
监控电池寿命
专利UFS（超快速溅射）系统用于
负极分析

半导体材料

LED 晶圆镀层结构质控及研发
VCSEL 芯片镀层分析
微电子器件镀层结构分析
逆向工程

产品特点：

光谱范围涵盖110 nm-800 nm

光谱分辨率低至18 pm~25 pm

专利高动态检测器HDD（线性动态范围可达5X109）

专利镀层厚度测试附件DIP

独有0.64m 单色仪（选配）可提高设备灵活性，用于全光谱扫描及N+1 通道

软件集成了标准样品、谱线波长和溅射速率的数据库

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