11月23号布鲁克纳米表面仪器部网络直播研讨会

讲座一：原子力显微术与白光干涉技术在化学机械抛光（平坦化）工艺研发中的应用

化学机械抛光（平坦化）作为半导体前道工艺关键环节受到业界和学界越来越多关注。其中，原子力显微术和白光干涉技术等各种表面显微表征手段，被广泛用于对各种材质抛光后表面形态的观察和表面粗糙度的量化，以及表面缺陷、残留的分析。本次讲座将从被抛光材料、材料移除率与抛光液、缺陷控制等多方面切入，探讨原子力显微与白光干涉是如何为材料研发、工艺优化与良率提升做出一份贡献的。

讲座二：化学机械抛光的工艺和应用研究进展

化学机械抛光（平坦化）作为一种快速全局平坦化的有效手段，除了在传统半导体材料中获得应用以外，在半导体领域的各种新材料，甚至传统领域的加工过程中都获得学术界越来越多的关注。一方面化学机械抛光过程的各种影响因素被广泛研究，包括抛光液、抛光垫、电场、高频振动等，用于理解并指导实际工艺过程的优化；另一方面化学机械抛光也被引入到各种加工要求较高的领域中，用于制备多种新材料和新结构。

讲座三：原子力显微镜与超高分辨率光学显微镜的联用

超高分辨率荧光显微镜在2014年获得诺贝尔化学奖，突破了光学衍射极限，分辨率达到了纳米级别。原子力显微镜自从1980年代发明以来，由于分辨率高、样品准备简单，应用范围从无机材料扩展到生物材料，从大气环境扩展到生理溶液环境，从形貌信息扩展到杨氏模量数据。近年来，原子力显微镜开始与超高分辨率光学显微镜进行联用，在原子力显微镜得到三维形貌结构、杨氏模量的同时，还可以得到超高分辨的荧光数据，获得生物过程的信息。

讲座四：大样品台纳米红外光谱和成像系统Dimension IconIR的应用

布鲁克公司于美国加州时间2021年10月18日发布了基于大尺寸样品台的纳米红外光谱和成像系统Dimension IconIR。该系统集成了业界优秀的Dimension Icon原子力显微镜系统和nanoIR系统中的AFM-IR技术，在化学成像极限分辨率突破10 nm的同时提供大尺寸样品台的解决方案，在化学和材料性能成像领域建立了新标准。