2025-11-11 12:43:02, Dr. Kong 清砥量子科学仪器(北京)有限公司
近日,香港中文大学电子工程学院引入由Quantum Design中国公司引进的新版小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3。该设备由工程学院副院长,材料研究中心主任许建斌教授课题组主导应用,重点为纳米电子学及光子学、二维材料、能源科技等前沿领域的研究提供关键微加工技术支持,助力香港中文大学在上述领域突破技术瓶颈、产出高水平科研成果。
作为当前微加工领域的核心设备之一,小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3,无需制作掩膜版,可直接将设计好的版图文件,如电路结构,微流控通道,光学微栅等,在光刻胶衬底上直接曝光。这一特性不仅省去了传统光刻流程中掩膜版设计、制作与适配的复杂环节,更凭借高效率、高精度、自动化等技术特点,大幅缩短微加工周期、提升工艺稳定性,广泛适用于纳米电子器件制备、微纳光子结构加工、生物微流控芯片研发等各类微加工相关科研场景。
值得关注的是,截至目前,MicroWriter ML3在国内已有上百家用户单位,经过多年实际应用验证与技术迭代,其性能稳定性与工艺适配性获得学界广泛认可,依托该设备的诸多高水平科研成果已在众多知名期刊发表,如Nature 646, 1081–1088 (2025);Nature 640, 654–661 (2025);Nature 641, 90–97 (2025)等,充分证明了其在推动前沿微纳研究中的核心价值。
此次落户于香港中文大学的MicroWriter ML3为最新升级版本,在技术参数上实现多维度优化,进一步拓展了科研应用边界:
分辨率覆盖全面:提供 0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm、5 μm 五种加工分辨率,可满足从精细纳米结构到常规微尺度图形的多样化加工需求;
光源适配灵活:集成 405 nm 与 365 nm 双光源,支持自动切换模式,可兼容各类正性、负性光刻胶,无需更换光源模块即可实现不同光刻胶的工艺优化;
套刻精度超卓:最高套刻精度优于 0.5 μm,确保多层微结构叠加加工时的对准精度,为复杂器件(如多层纳米电路、异质结微器件)的制备提供关键保障;
工艺能力拓展:具备背面对准功能,可实现透明衬底、柔性衬底等特殊基底上的精准光刻,丰富了微加工工艺的应用场景;
加工效率领先:最大直写速度超过 180 mm²/min,在保证精度的同时显著提升加工效率,满足批量样品制备与快速工艺验证需求。
小型台式无掩膜直写光刻系统- MicroWriter ML3
Quantum Design中国始终以国内科研需求为核心,充分发挥 “前沿技术桥梁” 作用,持续将国外具有优质前沿技术特色的设备引入国内,为科研工作者提供技术支持与服务保障。此次与香港中文大学的合作,不仅进一步扩大了公司设备技术在粤港澳大湾区科研领域的认可度,更标志着双方推动国内前沿微纳电子学领域研究的重要实践。
未来,随着 MicroWriter ML3 在香港中文大学的常态化应用,其高效、精准的微加工能力将为该校相关领域研究提供更坚实的技术支撑,助力科研团队在纳米电子器件性能优化、二维材料器件集成、新型能源存储微结构设计等方向取得更多突破性进展,推动我国在前沿纳米科技领域的研究水平进一步提升。
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