Centrotherm 卧式热反应系统-E1200/初步小规模生产的卧式炉-E1550/大批量生产的卧式炉-E2000
最多可搭配4组石英管或碳化硅管反应炉；
清洁的自动载舟系统；
反应炉独立控制提供了优质的小批量或复杂工艺能力；
先进的水冷却系统设计杜绝反应炉的温度干扰不耗用洁净室空气；
设备参数：
反应炉使用晶片尺寸：150mm（最多50片）或200mm（最多25片）
加热系统：3组300mm恒温区，温差0.5℃；
温控范围：200℃～1300℃；
可处理工艺气体种类：H2、Ar、N2O、N2、SiH4、NH3、B2H6、PH3、SiH2Cl2；
系统总功率：55kW
电源供给：400V.80A；
压缩空气：600～1000kPa；
冷却水流量：50～70LPM
排气能力：400m3/H
centrotherm E1550
最优化系统，支持多种工艺能力，适用于中等生产能力和高工艺性能用户，是一款安全、可靠、易于维护的卧式扩散炉平台。该炉可高达4层石英管或SiC工艺管， 其硅片尺寸可达300毫米的。凭借其低维护和运行成本、及占地面积小等优势， E1550
可以生产出极具成本效益的产品。
特点：
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试
centrotherm 2000专为大批量生产而设计，支持多种工艺能力，适用于大批量生产和高工艺性能的用户，并具有突出的高性能、占地面积小、低购置成本等优势。该产品对多种应用要求的高工艺具有的灵活性，并可高达4层石英管或硅片尺寸可达300毫米的SiC工艺管
特点：
适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试
Centrotherm 卧式热反应系统适合低产量、多工艺适应性加工要求的研发或小批量生产,Centrotherm 卧式热反应系统-E1200/初步小规模生产的卧式炉-E1550/大批量生产的卧式炉-E2000
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