Centrotherm 卧式热反应系统可用作常压CVD、LPCVD、PECVD、扩散、氧化、退火等工艺过程(泰思肯)

Centrotherm  卧式热反应系统-E1200/初步小规模生产的卧式炉-E1550/大批量生产的卧式炉-E2000

可用作常压CVD、LPCVD、PECVD、扩散、氧化、退火等工艺过程，以优良的品质、极小的体积、低成本的特点，特别适合低产量、多工艺适应性加工要求的研发或小批量生产。

二、 工艺特性

常压工艺

LPCVD工艺

PECVD工艺

三、 产品特性

最多可搭配4组石英管或碳化硅管反应炉；

清洁的自动载舟系统；

反应炉独立控制提供了优质的小批量或复杂工艺能力；

先进的水冷却系统设计杜绝反应炉的温度干扰不耗用洁净室空气；

设备参数：

反应炉使用晶片尺寸：150mm（最多50片）或200mm（最多25片）

加热系统：3组300mm恒温区，温差0.5℃；

温控范围：200℃～1300℃；

可处理工艺气体种类：H₂、Ar、N₂O、N₂、SiH₄、NH₃、B₂H₆、PH₃、SiH₂Cl₂；

系统总功率：55kW

电源供给：400V.80A；

压缩空气：600～1000kPa；

冷却水流量：50～70LPM

排气能力：400m³/H

该炉可高达4层石英管或SiC工艺管， 其硅片尺寸可达300毫米的。凭借其低维护和运行成本、及占地面积小等优势， E1550 可以生产出极具成本效益的产品。

特点：

适用于常压以及LPCVD和PECVD工艺
特殊工艺腔体3或4种版本可供选择
先进的冷却系统:不同炉管之间没有热干扰
全自动片架传送系统
模块化部件设计，便于在洁净室安装调试

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