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IB-19530CP 截面样品制备装置
为了满足市场多样化的需求,IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台,通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。
产品特点:
根据需要可以选择不同的功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。
◇ 高通量
通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能,不需花费时间等待加工开始,短时间内就能刻蚀。
◇ 自动加工程序
快速加工和精抛加工可以程序化,短时间内就能制备出高质量的截面。此外,利用间歇加工模式,还能抑制加工温度。
◇ 设置简单
功能性样品座采用模块化设计,在光学显微镜(另售)下也能调整加工位置。
◇ 多用途样品台
通过选择各种功能性样品座,不仅能截面刻蚀,还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。
◇ 高耐久性遮光板
遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右,能支持高速率加工和长时间刻蚀。
主要技术指标
离子加速电压
2~8kV
刻蚀速率
500μm/h
承载样品的zei大尺寸
11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度)
样品摆动功能
刻蚀过程中,样品自动摆动±30° (专利:第4557130号)
自动加工开始模式
达到设定的压力值后可自动开始加工。
间歇加工模式
脉冲控制离子束流照射,可以抑制加工时产生的热量。
精抛加工模式
主加工结束后,自动开始精抛加工。
*产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。
日本电子IB-19530CP截面样品制备装置,IB-19530CP
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