输出压力 | 100psi/6.9bar | 输出流量 | 1200cc/min |
氢气纯度 | 99.9995% |
在半导体行业中,每个工艺流程中引入的杂质污染,都有可能造成半导体器件缺陷。
半导体器件的整个制造过程中会用到多种化学品,例如过氧化氢(H2O2)、盐酸(HCl)、硫酸(H2SO4)等,进行清洗和蚀刻。
过氧化氢 | 作为强氧化剂,可用于清洗硅片、去除光刻 |
硝酸和氢氟酸混合物
| 混合物用于蚀刻单晶硅和多晶硅
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硫酸与过氧化氢的混合物
| 可用于晶圆加工过程的清洗
|
盐酸
| 用于去除硅片表面的有机和金属残留等杂质
|
随着半导体器件性能的持续提高,对杂质的控制要求也更加严格,所用化学品中的痕量的杂质会影响最终产品的性能和产量。国际半导体设备与材料产业协会 (SEMI) 发布了有关高纯试剂性能指标的标准, 规定绝大多数杂质元素的含量不超过 10 ppt。
所以,制造半导体器件时,需要对清洗和蚀刻硅片过程中使用的化学品中的痕量污染物进行常规监测,必须尽可能地将痕量污染控制在最低浓度,ICP-MS 就是普遍采用的一种监测工具。
应用:GC, GC-FID
目前,由于我们的气体发生器表现稳定,在中国市场这边反响十分积极,尤其是氢气发生器,广受好评。我们对我们的氢气发生技术信心十足,提供电解池三年质保,同时,我们不用碱液来电解生产氢气,而是用当前较新的,非常可靠的质子交换膜技术来生产氢气。
氢气发生器 Precision Hydrogen Standard 引领气体发生器行业发展数十年,精心设计的Precision系列能够根据气相色谱实验室需求,提供一系列完美的气体解决方案。遍布全球的技术服务中心,保证了我们能以很快的速度服务于客户。
我们氢气发生器十分安全,因为它有氢气泄露检测功能和安全阀,一旦检测到氢气发生器的内部或外部管路有漏气,氢气发生器自动关机,安全阀启动,气体发生器泄压。另外,氢气在氢气发生器内少量储存,我们的氢气发生器所采用的技术成熟可靠。
为何选择Precision系列:
模块化系统为气相色谱提供了一种供气解决方案,非常适合您的实验室应用
节省空间的堆叠式设计,可充分利用实验室的空间
产品组合可单独使用,也可满足多个气相色谱应用
避免了使用气罐带来的不便,无需过多转接,不再有供给问题,必然更为安全
整个寿命周期内,所需的维护非常少
长期的成本稳定性
Precision 系统只采用具有良好安全和可靠性记录的技术
现代风格的指示灯用于显示机器的状态
Peak Precision H2 1200氢气发生器 用于半导体行业的ICP-MS分析,Peak Precision H2 1200
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