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PECVD, 支持定制,单片或卷对卷式PECVD。
可用于沉积类金刚石、氧化硅、氧化铝、氧化钛、氮化物、硫化物等类型薄膜。
可用于聚合物薄膜沉积。
可选13.56兆赫、20kHz等离子体。
片式PECVD参数:
真空度10-3Pa,薄膜厚度:10nm-1um,温度范围:400摄氏度,基片大小:6英寸或根据用户要求。设备尺寸:直径350mm,高500mm。
价格35~55万人民币。
卷对卷式PECVD参数:
1分钟100m,1分钟1.5微米厚,1.25m幅宽(可定制),卷厚度8um到50um,可用于食品包装,起阻水阻氧作用。
参考价格500万人民币左右。
阻水氧数据:
伯英科技等离子体辅助化学气相沉积系统PECVD-片式与卷对卷式PECVD-定制,PECVD
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