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在进样系统的滑槽式的设计中,硅片可连续进样。双密封,磁加载机械机构以及集成的氧/水气捕集器,使得进样系统实现零大气污染,并保持最佳的载气气体的纯度。
可编程通过功率及电流控制的脉冲电极炉
分析精度及准确度精确至ppm级别
低空白值,配置适合硅片进样的进样口
配置具有安全保护性能的试剂容器
仪器全新的气路设计需要更少的维修
氧含量输入采用ppma格式
Windows® 操作系统
ROSi600旨在满足硅产业对于分析的低灵敏度和高精度的要求。通过力可固态红外检测系统无与伦比的灵敏度与我们全新设计的进样系统和可编程脉冲炉相结合,ROSi600提供准确和精确的氧含量的结果,比如硅片材料中氧的分析结果。低灵敏度和高精度也被应用到其他金属工业,比如电子工业中对高纯度铜中氧含量的测定需求。
ROSi600 氧分析仪配置电脑及平板显示器和Windows操作系统
Smartline® Remote 远程诊断
消耗品
自动清扫及自动进样系统
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