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Phenom飞纳台式扫描电子显微镜 Pro高分辨率专业版 Phenom Pro可用于测定氢氧化钾,适用于蚀刻项目。并且参考多项行业标准扫描电镜,台式电镜,台式扫描电镜,桌面扫描电镜,氢氧化钾蚀刻。可应用于多个行业领域。
氢氧化钾蚀刻 (KOH)是制造微型器件的一个重要工艺,用于从硅片上去除材料。选择性地蚀刻硅片的某些部分,用一层二氧化硅或掩膜来保护剩下的部分。然而,残留物的存在成为这种技术的一个缺点,因为它会对器件的制造过程产生负面影响。在这篇博客中,我们提出了一种利用蚀刻残留物的方法,将其作为后续蚀刻的掩膜,以制造两层微结构。我们还提供了如何有效地利用扫描电镜SEM对这些微结构进行成像的例子。
Phenom Pro 主要技术参数
标准模式
降低荷电效应模式
飞纳高分辨率专业版 Phenom Pro 是飞纳电镜系列中最先进的产品,第六代 Phenom Pro 放大倍数提升为 350,000 倍,分辨率优于 6 nm,30 秒快速得到表面细节丰富的高质量图像,是目前世界上分辨率最高的台式扫描电镜,可用于测量亚微米或纳米尺度的样品;飞纳高分辨率专业版 Phenom Pro 继承了飞纳电镜系列高分辨率、15 秒快速抽真空、不喷金观看绝缘体、全自动操作、2-3 年更换灯丝及防震设计等优点。
飞纳高分辨率专业版 Phenom Pro 可选配丰富的拓展功能选件,如 3D 粗糙度重建(3D Roughness Reconstruction)、纤维统计分析测量系统(FiberMetric)、孔径统计分析测量系统(PoreMetric)、颗粒统计分析测量系统(ParticleMetric)、超大视野拼图(Auto Image Mapping)、远程操作等。软件可以自动采集数据、处理图片。比如,纤维统计测量系统可以自动识别、测量纤维样品,而大视野拼图 则自动采集生成高分辨、大视野的样品全景照片,等等…
除此之外,还有各种各样的样品杯可供选择,这些样品杯使得样品的装载更加便利。无论是对于长轴状样品,还是生物材料,或者其它种类的材料,总有一款合适的样品杯可以提供完美的解决方案。
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