飞纳台式扫描电子显微镜标准版PurePhenom Pure扫描电镜 通过激光直写技术制造光子设备：SEM如何作出贡献(Phenom)

Phenom扫描电镜Phenom Pure用于测定光刻胶材料，符合行业标准http://www.phenom-china.com/blog/details.aspx?id=45。适用激光直写技术制造光子设备项目。

光子设备被广泛应用于自然科学中，用于制造，操作和探测光。在未来，制造先进的光子设备将是一种挑战，并需要灵活性和可调谐性。因为它们需要先进的三维光刻技术， 制造这些设备并非易事。激光直写技术（DLW）是一种有趣的方式，它的目标是运用液态晶体光刻胶作为感光材料。

样品导电性要求：无需喷金，直接观测绝缘体

环境扫描选件（ESEM）：温控样品台，可直接观测液体

可升级为Phenom  Pro 专业版

Phenom(飞纳)  Pure（飞纳台式扫描电镜 标准版） 一款性能和价格介于光学显微镜和传统大电镜之间的经济型台式扫描电镜，可用于测量亚微米尺寸的样品。Phenom  Pure 适用于传统大电镜待测样品的快速筛选，也适合于光学显微镜的分辨率无法满足需求的客户。

表面细节丰富的高分辨率照片Phenom(飞纳)  Pure 为您提供高信噪比、表面细节丰富的优质图像：分辨率优于 12 nm，大景深；传统电镜往往通过提高加速电压来产生更高的信号，同时由于穿透深度较深，导致表面细节缺失。低加速电压     电子穿透深度浅，避免样品被破坏，展现更多表面细节；探测背散射电子，展现清晰形貌结构的同时，提供丰富的成份信息；5kV 低加速电压下，电子反应区位于样品表面，配合高亮 CeB6 灯丝，既保证了分辨率，又得到样品表面的信息  CeB6灯丝在样品表面单位面积内激发的信号约是钨灯丝的 10 倍，适合于低加速电压观测

表面形貌和成分信息同时展现

背散射电子的产率、出射角度与样品成份及表面形貌相关。Phenom（飞纳）采用 4 分割半导体背散射电子探测器，为您提供两种成像模式，模式之间可迅速切换：•   成份模式：同时给出样品表面形貌与成份信息，不同元素可由其灰度对比度的不同加以分辨•   形貌模式：去除成份信息，样品表面凹凸起伏等微观结构更加明晰，适用于表面粗糙度和缺陷分析成份模式 4分割背散射电子探测器扇区所得的信号相叠加形貌模式 4分割背散射电子探测器扇区所得的信号相抵消成份模式图像包含样品成份与形貌信息形貌模式图像仅突出样品表面形貌特征

专利样品杯，30秒快速成像 

Phenom（飞纳）专利样品杯、低真空设计、专利的真空封锁技术，装入样品后30秒内即可得到高质量图像，耗时仅为传统电镜的1/10左右。       

直接观看绝缘体，无需喷金Phenom（飞纳）采用低真空技术，出射电子与空气分子碰撞产生正离子，正离子与样品表面累积的电子中和，有效抑制荷电效应的产生，直接观测各种不导电样品（如下图所示）。利用降低荷电效应样品杯，更可将开始荷电的放大倍数提高8倍左右，而且不会影响灯丝寿命，下图头发示例：

操作简便，全程导航 

自动/手动聚焦Phenom（飞纳）操作界面。通过点击右侧图标可以轻松完成图像缩放、聚焦、亮度对比度调节、旋转等操作。界面右侧显示光学导航和低倍SEM导航窗口，方便用户在不同样品、不同区域间进行切换。

自动/手动亮度

自动/手动对比度

自动灯丝居中调节

自动马达样品台

光学/电子样品导航    光学导航，所有带观测样品尽在视野之中，高倍下准确切换样品，只需点击感兴趣样品，即可自动移动到屏幕中央低倍SEM照片导航，导航窗口中的彩色矩形框指示了住观测窗口的观测区域，点击感兴趣的区域，自动移动到样品中央

环境适应性高，完全防震Phenom（飞纳）可以放置在几乎所有的室内环境当中，无需超净间。采用灯丝、探测器、样品台相对一体化的设计，震动不会引起三者间的相对运动，使Phenom成像不受震动影响，可放置在较高楼层。

互联网远程检测Phenom（飞纳）拥有远程检测功能，通过网络，专业工程师可随时为您远程检测系统、答疑解难，为您提供全方位的保护，让您的Phenom随时处于最佳工作状态。

适用于不同领域的样品杯选件

全球销量突破6000台！

飞纳台式扫描电镜 标准版
                       智能、高效、经济
放大倍数：175,000;

分辨率：优于12nm

电子枪：1500小时CeB6灯丝

抽真空时间：10秒

样品移动方式：自动马达样品台

样品定位方式：光学和低倍电子双重导航

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