ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪ICP-MS 应用于电子/半导体

赛默飞ICP-MSELEMENT GD Plus可用于测定整体材料，适用于超痕量金属项目。并且参考多项行业标准相对灵敏度系数。可应用于电子/半导体行业领域。

  ELEMENT GD PLUS GD-MS 将具有优越属性的不同部件集成在单一仪器中，提供了无与伦比的速度、灵敏度和准确性。ELEMENT GD PLUS GD-MS 离子源和样品夹的设计使换样更容易，适于常规操作，提高样品分析通量。
  ELEMENT GD PLUS GD-MS 采用先进的高分辨率扇形磁场技术。GD-MS 的主要限制是存在等离子体中基体元素及放电气体与其它核素聚合物的干扰。因此，通过高分辨将分析物与大部分干扰分开是准确测定的先决条件。质量校准的高度精密、准确性对于快速分析、准确跳峰而言至关重要。ELEMENT GD PLUS 具有全自动质量锁定程序，因此质量校准将不再是分析时的常规步骤。

Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的zei佳工具。

ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：

·         样品测试通量高：ELEMENT GD离子源和样品夹的设计使可缩短换样和分析时间，显著提高生产率；

·         检测器线性范围宽：检测器线性范围达12个数量级，可一次扫描同时检测基体和痕量元素组成；

·         具有固定宽度的低、中、高分辨率狭缝，采用高分辨率可直接分析有质谱干扰的同位素。

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