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原子层沉积(atomiclayer deposition,ALD)技术,亦称原子层外延(atomiclayer epitaxy,ALE)技术,是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。原子层沉积技术起源于上世纪六七十年代,由前苏联科学家Aleskovskii和Koltsov首次报道,随后,基于电致发光薄膜平板显示器对高质量ZnS: Mn薄膜材料的需求,由芬兰Suntalo博士发展并完善。然而,受限于其复杂的表面化学过程等因素,原子层沉积技术在最开始并没有取得较大发展,直到上世纪九十年代,随着半导体工业的兴起,对各种元器件尺寸,集成度等方面的要求越来越高,原子层沉积技术才迎来发展的黄金阶段。进入21世纪,随着适应各种制备需求的商品化ALD仪器的研制成功,无论在基础研究还是实际应用方面,原子层沉积技术都受到人们越来越多的关注。
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。
紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子选项
适用于小尺寸至200mm的晶圆片
蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体
实时检测选项,包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪
ALD产品家族涵盖的系列设备可以满足学术界、企业研发和小规模生产的多种需求
实时监测选项,包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪
OpAL系统可通过清晰而易行的途径升级为等离子体,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD
牛津仪器有大量的工艺储备,并且还在不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持,我们还将为您提供关于开发新材料的建议,同时继续与您共享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。
可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱 - 适用于干燥环境
易于拆卸的内腔室 - 减少腔室清洗时间
机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫 - 以确保健康和安全的承诺
气动起重装置 - 用于安全打开腔室
可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱 - 以确保健康和安全的承诺
纳米电子
高K栅氧化物
存储电容电介质
用于Cu互连的高深宽比扩散隔层
用于OLED和聚合物的无针孔钝化层
用于晶体硅太阳能电池的钝化
用于微流体和MEM的高保形涂层
纳米多孔结构的涂层
生物MEMS
燃料电池
牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物,ALD OpAL
牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物信息由牛津仪器科技(上海)有限公司为您提供,如您想了解更多关于 牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
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