使用赛默飞世尔科技™元件 GD Plus™ GD-MS 重新定义直接在固态下分析先进高纯度材料。对于高通量和超低ppb级检测限,Element GD Plus GD-MS是常规和研究应用中散装金属分析和深度剖析的最方便、最强大的工具。
Element GD Plus GD-MS能够以相同的灵敏度和数据质量分析元素周期表中几乎所有的导电和非导电材料元素。通过专用的样品制备和分析工作流程,可以轻松分析低熔点金属(如镓)。这使得GD-MS成为任何金属分析的可靠标准。
固体样品中存在的几乎所有元素都可以常规检测和定量:许多元素可低至十亿分之一(ppb)水平。
高生产率和低分析
成本Element GD Plus GD-MS旨在以高样品通量提供出色的灵敏度和准确度,从而大大降低分析成本。
快速流动离子源
用户友好的源设计:< 1 分钟样品更换
泵送时间短:< 10 分钟样品周转时间
高样品通量:高达 5 个样品/小时
更少的样品制备:无需对高纯度样品进行酸清洗
更快的样品分析:无需测量校准标准品
日常操作
Element GD Plus GD-MS以常规操作和高通量为核心设计。
出色的检测
限Element GD Plus GD-MS可提供高通量,不折不扣。Element GD Plus GD-MS具有最高的信噪比和最低的检测限,是超高纯度元素分析的主力。
通过高质量分辨率
信任结果高分辨率ICP-MS简单,可实现最先进的性能,而不会影响简单可靠的方法开发。
无干扰测量,获得无可争议的分析结果
可以在单个分析中执行分辨率设置的任意组合
固定狭缝设计保证了最大的稳定性和可重复性
由于滤光透镜,高基质信号对相邻分析物峰的贡献最小
纳米分辨率
的深度剖析深度剖析是涂层元素分析和跨层元素扩散评估的重要工具。
推荐用于:
赛默飞ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪 微电子:铜、氧化铝粉、溅射靶材,ELEMENT GD Plus
赛默飞ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪 微电子:铜、氧化铝粉、溅射靶材信息由赛默飞色谱与质谱分析为您提供,如您想了解更多关于赛默飞ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪 微电子:铜、氧化铝粉、溅射靶材报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。