LZD系列离子注入系统

LZD系列离子注入系统配置一套高能气体离子源和一套高能金属离子源，可实现不同气体离子和不同金属离子的单元素、多元素或混合元素注入。LZD系列离子注入系统配置移动式加热和水冷样品平台，可对注入样品进行加热或冷却处理。适用于实验研究和小量样品试验。

基本配置

真空室：直径600 * 长度800mm，卧式安装，单层304不锈钢。顶部设计气体离子源和金属离子源接管，侧面设计分子泵接管，两端大开门，方便样品取放。

抽气系统：FF250分子泵2000L/s + TRP90直连泵25L/s+高真空插板阀+挡板阀+管道。

离子源：高能金属离子源一套，高能气体离子源一套。

真空测量：数显复合真空计。

送气系统：一个截止阀+一个质量流量控制器和相关管道。

样品台：水冷加热两用样品台一个，需手动更换样品台台面。可平移定位到气体离子源和金属离子源正下方。

电源及控制系统：配备高能金属离子源和气体离子源电源，设备一体化机柜设计，PLC+PC控制系统。

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