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EKSMA 高温晶体烘箱 HP200
参考价：面议
品牌与制造商：EKSMA 产地：立陶宛 型号：HP200-12x12 官方样本下载：来电或留言获取样本
数据更新时间：2026-10-04
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产品官方概述
Features:
以下内容综合自EKSMA官方技术规格及公开资料信息
官方技术参数
| 产地与供应商：进口 总代理 |
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 参数 | HP200 |
| 晶体尺寸 | 3x3x30 … 12x12x30 mm |
| 温度调谐范围 | 25 – 220 °C |
| 温度调谐步长 | 0.1 °C (knob) |
| 0.001 °C (远程) | |
| 长期稳定性* | ± 0.03 °C |
| 温度变化率** | 1 – 10 °C / min |
| 电源 | 24 V DC |
| 功耗 | <60 W |
| 温控炉-温控器连接器 | Micro-Fit 3.0, Dual Row, 6 Circuits |
| 电源连接器 | DC jack, 5.5 x 2.5 mm |
| 热控制器尺寸 | 54 x 23 x 70 mm |
| 温控炉尺寸 | Ø50.8 x 69 mm |
产品介绍
产品简介
Features:
Heatpoint 系列 HP200 温箱是确保温度敏感光学元件（如 LBO、DKDP 和 CLBO 非线性晶体）实现高温稳定化的理想解决方案。HPC200 允许以 0.1 °C 的步长进行温度微调，工作温度范围从室温（约 25 °C）至 220 °C。
由 HP200 温箱和 HPC 控制器组成的套件使温度控制变得简单。HPC 控制器配有 OLED 显示屏和旋钮，可轻松控制最常用的可调参数，如温度和温度变化速率。使用 HP200 和 HPC 作为高温套件可确保 ±0.03 °C 的长期稳定性，使 HP200 成为市场上最精确、最稳定的温箱之一。
如果您需要更高级的控制和监控功能，HP200 温箱与 HPC 温控器组成的套件还配备了 USB-C 和 CAN 连接，便于与您现有的实验室设备集成。
我们还可按需提供密封设计的 HP200 温箱（配有增透膜涂层光学窗口）。在使用较大孔径非线性晶体时，密封温箱可确保更高的温度稳定性。
- 温度范围：25 - 220 °C
- 适用于较大晶体：孔径（）上限：12 x 12 mm
- 长度（）上限：30 mm
- 高长期稳定性
- 高温度均匀性
技术规格
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 参数 | HP200 |
| 晶体尺寸 | 3x3x30 … 12x12x30 mm |
| 温度调谐范围 | 25 – 220 °C |
| 温度调谐步长 | 0.1 °C (knob) |
| 0.001 °C (远程) | |
| 长期稳定性* | ± 0.03 °C |
| 温度变化率** | 1 – 10 °C / min |
| 电源 | 24 V DC |
| 功耗 | <60 W |
| 温控炉-温控器连接器 | Micro-Fit 3.0, Dual Row, 6 Circuits |
| 电源连接器 | DC jack, 5.5 x 2.5 mm |
| 热控制器尺寸 | 54 x 23 x 70 mm |
| 温控炉尺寸 | Ø50.8 x 69 mm |
型号选择
| SKU | 名称(中文) | 规格 |
|---|---|---|
| HP200-12x12 | 高温晶体炉 HP200，Oven for crystal size 12x12 mm, length up to 30 mm | 描述=Oven for crystal size 12x12 mm, length up to 30 mm; 组=晶体炉 |
| HP200-3x3 | 高温晶体炉 HP200，Oven for crystal size 3x3 mm, length up to 30 mm | 描述=Oven for crystal size 3x3 mm, length up to 30 mm; 组=晶体炉 |
| HP200-4x4 | 高温晶体炉 HP200，Oven for crystal size 4x4 mm, length up to 30 mm | 描述=Oven for crystal size 4x4 mm, length up to 30 mm; 组=晶体炉 |
| HP200-6x6 | 高温晶体炉 HP200，Oven for crystal size 6x6 mm, length up to 30 mm | 描述=Oven for crystal size 6x6 mm, length up to 30 mm; 组=晶体炉 |
| HP200-8x8 | 高温晶体炉 HP200，Oven for crystal size 8x8 mm, length up to 30 mm | 描述=Oven for crystal size 8x8 mm, length up to 30 mm; 组=晶体炉 |
| HP200L-3x3 | 高温晶体炉 HP200，Oven for crystal size 3x3 mm, length up to 50 mm | 描述=Oven for crystal size 3x3 mm, length up to 50 mm; 组=晶体炉 |
| HP200S | 高温晶体炉 HP200，Sealed oven for standard crystal sizes (indicate operation wavelength and crystal size when ordering) | 描述=Sealed oven for standard crystal sizes (indicate operation wavelength and crystal size when ordering) |
| MS-1 | 高温晶体炉 HP200 | 描述，特性=Two axis tilt adjustment 5 degrees range, suitable for all types of CH3, CH4 or CH7 crystal ovens. |
| MS-4 | 高温晶体炉 HP200，Adapter for HP200 oven mounting on tilt stage | 描述=Adapter for HP200 oven mounting on tilt stage |
| OM-1 | 高温晶体炉 HP200，Mounting stage for HP200 oven | 描述=Mounting stage for HP200 oven; 组=晶体炉安装台 |
产品图集
hp200_high-temperature_crystal_oven
 hp200_temperature_stability |
EKSMA 高温晶体烘箱 HP200信息由江阴韵翔光电技术有限公司为您提供，如您想了解更多关于EKSMA 高温晶体烘箱 HP200报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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