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EKSMA BaF2 交叉偏振波产生用光学晶体

EKSMA BaF2 交叉偏振波产生用光学晶体封面图
EKSMA BaF2 交叉偏振波产生用光学晶体
  • EKSMA BaF2 交叉偏振波产生用光学晶体
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参考价:面议
品牌与制造商:EKSMA 产地:立陶宛 型号:540-7105 官方样本下载:来电或留言获取样本 数据更新时间:2026-10-04
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仪器维修
型号 品牌 PIPES指数
LBO-1001H EKSMA 5
青铜会员 第6年 分析测试百科网认证
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产品官方概述

交叉偏振波 (XPW) 产生是一种三阶非线性过程,在此过程中基频波与产生的波具有相同频率;然而产生波的偏振方向垂直于泵浦波的偏振方向。在 XPW 产生过程中,相位匹配可在较大带宽内实现,这意味着基频波与 XPW 具有相同的相速度和群速度。

以下内容综合自EKSMA官方技术规格及公开资料信息
官方技术参数
产地与供应商:进口 总代理
参数规格
材料BaF₂
表面质量60-40 scratch & dig (MIL-PRF-13830B)
通光孔径90% of diameter
直径公差+0.0 -0.25 mm
厚度公差0.2 mm
平行度3 arcmin
平整度λ / 2 @ 633 nm
参数规格
晶体取向h-cut [011]
长度, mm2
n1.464
(10⁻²² m² / V²)1.53
σ-1.2
群速度色散(fs² / mm)-6
参数规格
晶体类型立方
密度,g / cm³5.27
熔点,°C1525
折射率 @ 0.265 µmn = 1.51217
折射率 @ 10.3 µmn = 1.39636
透射波段,µm0.135-15
参数规格
产品线femtoline
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