EKSMA BaF2 交叉偏振波产生用光学晶体
参考价:面议
品牌与制造商:EKSMA 产地:立陶宛 型号:540-7105 官方样本下载:来电或留言获取样本
数据更新时间:2026-10-04
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产品官方概述
交叉偏振波 (XPW) 产生是一种三阶非线性过程,在此过程中基频波与产生的波具有相同频率;然而产生波的偏振方向垂直于泵浦波的偏振方向。在 XPW 产生过程中,相位匹配可在较大带宽内实现,这意味着基频波与 XPW 具有相同的相速度和群速度。
以下内容综合自EKSMA官方技术规格及公开资料信息
官方技术参数
| 产地与供应商:进口 总代理 |
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 材料 | BaF₂ |
| 表面质量 | 60-40 scratch & dig (MIL-PRF-13830B) |
| 通光孔径 | 90% of diameter |
| 直径公差 | +0.0 -0.25 mm |
| 厚度公差 | 0.2 mm |
| 平行度 | 3 arcmin |
| 平整度 | λ / 2 @ 633 nm |
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 晶体取向 | h-cut [011] |
| 长度, mm | 2 |
| n | 1.464 |
| (10⁻²² m² / V²) | 1.53 |
| σ | -1.2 |
| 群速度色散(fs² / mm) | -6 |
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 晶体类型 | 立方 |
| 密度,g / cm³ | 5.27 |
| 熔点,°C | 1525 |
| 折射率 @ 0.265 µm | n = 1.51217 |
| 折射率 @ 10.3 µm | n = 1.39636 |
| 透射波段,µm | 0.135-15 |
| 参数 | 规格 |
|---|---|
| 产品线 | femtoline |
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