HORIC L200 卧式低压化学气相沉积系统

Name: HORIC L200 卧式低压化学气相沉积系统
Brand: 北方华创
SKU: HORIC L200

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参考价：面议

品牌：‌北方华创‌ 产地：中国型号：HORIC L200 样本：来电或留言获取样本

北方华创科技集团股份有限公司

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参数

应用场景：半导体	供应商性质：生产商	产地类别：国产
沉积方式：低压化学气相淀积系统（LPCVD）

产品介绍

HORIC L200 卧式低压化学气相沉积系统

HORIC L200 LPCVD System

HORIC L200 LPCVD系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。设备包含净化工作台、炉体机箱、气源柜、真空系统及电气控制系统五大部分，相关模块齐全，可根据不同客户需求进行配置。

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