产品介绍
Park NX-Hybrid WLI
AFM 和 WLI 技术集成系统
用于 200mm至 300mm 晶圆的全自动工业化 AFM-WLI 系统是业内最快捷、最准确、最通用的半导体计量工具。
Park NX-Hybrid WLI 是迄今为止首个内置白光干涉仪轮廓测量的 AFM 系统,可用于半导体元件的研发计量、过程控制和制造质量保证。
Park NX-Hybrid WLI 使用 WLI 模块在相当大的区域提供高吞吐量成像,并使用 AFM 在感兴趣的区域提供亚埃高度分辨率的纳米尺度计量。
Park NX-Hybrid WLI 提供了从大面积扫描到纳米级计量的终极解决方案,适用于各种应用,包括质量保证、自动缺陷检测、前端半导体工艺控制和后端先进封装。
Park NX-Hybrid WLI 无缝集成了自动化工业 AFM 系统和 WLI 轮廓仪。与前两种单独的工具解决方案相比,它能有效地节约成本、减少设备占用空间并能提供全新的最佳计量解决方案。
Park NX-Hybrid WLI可测量亚埃级精度的台阶高度
WLI 和 AFM
半导体计量的两种最佳互补技术
WLI
白光干涉测量是一种光学技术,具有成像区域广、速度快、吞吐量高的优点。
AFM
原子力显微镜是一种扫描探针技术,对所有样品材料(包括透明材料)都能提供最精确的纳米级分辨率测量。
技术参数:
WLI 规格
模式
WLI, PSI
最大扫描范围
WLI: 28 μm
PSI: 100 nm (0~5 μm)
垂直分辨率
0.1 nm
电动线性镜头更换器
2 lens
物镜放大的各种WLI规格
视野 (FOV)
2.5 x
4500 μm x 3754 μm
10 x
1125 μm x 938 μm
20 x
562 μm x 469 μm
50 x
225 μm x 187 μm
100 x
112 μm x 93 μm
AFM 规格
XY Scanner
100 μm × 100 μm
Z 扫描仪范围
15 μm
系统规格
300 mm 电动XY 平台
行程可达 400 mm × 300 mm,
0.5 μm 编码器
电动 Z 平台
25 mm Z 行程距离
电动聚焦平台
8 mm Z 行程距离
同轴光学
可装载样品厚度
厚至20 mm
尺寸 & 重量
300 mm 全系统
3836 mm (w) x 1450 mm (d) x 2160 mm (h)
w/ EFEM, 大约 2950 kg(包括控制柜)
天花板高度: 3000 mm 或以上
操作员工作空间: 5150 mm (w) x 3850 mm (d)
帕克 NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统 用于半导体元件的研发计量,Park NX-Hybrid WLI
帕克 NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统 用于半导体元件的研发计量信息由Park帕克原子力显微镜为您提供,如您想了解更多关于帕克 NX-Hybrid WLI 全自动工业 WLI-AFM 系统 用于半导体元件的研发计量报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。