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ADVANCED RESEARCH SYSTEMS(ARS)公司的LT3B-OM恒温器专为UHV显微拉曼设计,可烘烤至150℃,所有法兰通用铜片密封。也适用于其它各类低振动要求的光学显微实验。窗口专为科学实验而设计,可现场更换。
典型应用
• 光学显微
• 显微拉曼
• 量子点
• 光致发光
• 显微-光致发光
• 光电实验
• 磁光实验
典型特点
• 连续可调样品高度
• 1.52英寸的高度
• 纳米级振动
• 液氦流
• 基质热交换
• 同轴流屏蔽层流
• 4 K 液氦操作 (泵抽可达1.7 K)
• 4.2K下液氦消耗率为0.7 LL/hr
• 兼容液氮(77 K操作)
• 流量控制
标准结构
• LT3-OM冷台
• 同轴流动液氦传输管线
• 不锈钢仪表群
• 杜瓦置适配器
• 流量板面用于液氦流速控制及优化
• 镍镀金无氧铜防热辐射屏
• 供温度测试和控制的仪表群:
• 10 针密封电学接头
• 36 欧姆片状加热器
• 为控温而备的精度为± 0.5 K的硅二极管温度计
• 精度为±12 mK的校准型硅二极管温度计(带4英尺线缆供样品的测试)
• 用于光学实验的平板样品座
• 温控仪
可选配置及升级选项
• 传输升级
• 为于磁体室温孔匹配
• 液氦传输管线
• 高温台
• 更高温台
• 可定制温度计结构
• 可定制接线结构
• 可定制窗口材料
• 可定制样品座
技术参数
冷却技术
LT3B
开环制冷,Helitran
制冷方式
液氦流
制冷剂
液氦,可兼容液氮
温度
< 4.2K - 350K (泵抽情况下<2K)
加800K高温台
(最低温+2K)-700K
加450K高温台
最低温-450K
温度稳定性
0.002K
样品空间
直径
大,开放式防热辐射屏
高度
恒温器型号
液氦
最低温度
4.2K
泵抽情况下<2K
4.2K下液氦消耗
0.7LL/hr
制冷量
2LL/hr
0.5W
1.5W
20K
3.0W
8.0W
50K
7W
20W
制冷时间
20分钟
结构图
典型案例
麻省理工学院的Comin实验室,LT3B OM低温恒温器安装在两维移动平台上用于样品校准。由Riccardo Comin教授提供。
装在Horiba拉曼光谱仪上的用于超高真空环境的LT3B-OM
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Flow Cryostat - Optical Microscopy
LT3B-OM UHV显微型连续流低温恒温器
美国ARS LT3B-OM UHV 显微型 液氦连续流 低温恒温器,LT3B-OM
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美国ARS LT3-OM 显微型 液氦连续流 低温恒温器
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美国ARS 制冷机 Orca Mixed Gas JT
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美国ARS 4K制冷机 DE-215
美国ARS 制冷机 DE-210
多为莱博 美国SPI 金导电胶
多为莱博 焊锡 易熔合金 CERROTRU 281℉ (BOLTON 281)
多为莱博 英国 CMR-Direct 银导电胶
多为莱博 英国CMR-Direct 矩形低温接头
多为莱博 英国 Apiezon 系列真空脂
多为莱博 铜辫
多为莱博 键合金丝99.99%
多为莱博 低温温度计连接线
群组论坛--近红外(NIR)
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