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一、产品特点:
1、加工面积大:样品尺寸:0~Ø25mm;
2、样品表面更均匀;
3、加工时样品表面能量低,特别对于薄膜、高分子样品(对温度敏感性高的样品)损伤小; 4、控制精度高,实验结果精准可控重复性高;
5、配备专用截面样品台;
6、可实现多种功能:离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备;
7、专用挡板;
8、制备单个样品可实现不同能量自动调整;
9、数字化自动控制系统。
二、技术参数:
1、真空度:极限真空度5*10-3Pa (不通氩气);
2、*高压:(1)200~10000V;
3、样品台可旋转;
4、具有自保护功能;
5、双离子枪可独立控制;
6、样品冷却:半导体冷却( 选配件);
7、支持手套箱。
手套箱离子刻蚀仪,AL-2600
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