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一、产品特点: 1、面积大:0~Ø25毫米、0~Ø50毫米;
2、溅射样品表面膜层更均匀;
3、颗粒度更小(3nm左右);
4、溅射到样品表面能量低,对样品损伤小;(适用温度敏感性高的样品)
5、可以溅射各种固体靶材(如各种金属、陶瓷、碳等);
6、控制精度高,实验结果精准可控重复性高;
7、在同一真空腔内,可实现清洗和镀膜,降低污染样品造成的数据偏差 ; 8、加入特殊气体,可进行反应离子束刻蚀; 9、可实现的功能有:等离子清洗、镀膜等; 10、数字化自动控制系统。
二、技术参数:
1、真空度:极限真空度5*10-3Pa(不通氩气);
2、*高压:(1)200~6000V;
3、样品台可旋转;
4、具有自保护功能;
5、单离子枪;
6、样品冷却:半导体冷却( 选配件)。
离子镀膜仪,AL-1000
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离子减薄仪
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