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仪器应用: 离子抛光 离子清洗 等离子体灰化 等离子体氧化、氮化 表面改性 反应刻蚀 生物医药 传感器 技术参数: 1,真空系统: 尺寸: 72英寸X 50英寸 真空泵:分子泵+机械泵 本底真空:1X10E-7Torr 2, 样品台: 样品大小:150mm 处理角度:0-180度 旋转速度:0-20RPM 冷却:水冷 3, 离子源 孔径:22厘米 栅格:2个,钼材质 激发:RF射频 电性中和:PBN 束流: 200-1000V, 0-1000mA 工作气体:Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6 SIMS终点监测
主要特点: RF or DC 离子源, 8-22厘米Gridded Kaufman离子源 单片样品传输腔 高效率高产量,低能量等离子体源 zei大直径至150毫米样品表面处理 <3% 非均匀性 水冷,倾斜,旋转 操作简便,小型设备,皮实耐用 SIMS终点监测 全部电脑操作 反应离子刻蚀 单片样品台/三片行星式旋转样品台
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