KRI Integrated Power Pack Controller 电源模组集成包 电源模组集成包有独立的电源模组衍生而来,因为 KRI 的独立电源模组是一种标准的模组,所以这些模组能够容易的集成到自动、多功能的功率包中。集成包是一个强有力的工具,能够简化等离子、离子和电子源的操作,最大的优点是可以方便的实现功率控制的最优化。
eH Plasma Power Pack Controller---eH 等离子功率集成包 eH 等离子功率集成包用于驱动 end-Hall 离子源,它由电子发射模组、等离子放电模组和自动系统控制模组组成,结构紧凑、重量轻便。适用于材料工艺中要求高效、稳定和精确的电子或离子源的功率控制。
它能给 end-Hall 等离子源的阳极或阴极提供功率,使用者可根据需要设置阳极的离子密度和离子能量,同样的使用者也可以界定阴极的电子流参数。eH Plasma Power Pack 能够跟踪离子流,自动发射电子确保电中性。
eH Plasma Power Pack 有自我保护功能,同时它是一个快速反应的功率源,可以在几秒钟内点火产生等离子,并在几秒钟内使离子束达到稳定。可以存储多个工艺程序、控制多个MFC确保对多种气体和气体混合物的精确控制。 使用者能容易的设置各种参数和模式、状态,面版上会显示出设定值、运行值、功能表存储资讯和工作状态资讯。
KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射频感应耦合等离子功率集成包 RFICP Ion Power Pack Controller 用于驱动有栅极离子源,由中和器模组、放电模组、偏压模组和加速模组组成,这些模组集成在一个 19” 的集成包中。
RFICP Ion Power Pack Controller 给离子源的射频线圈、离子光学和中和器提供电源,将射频功率耦合到辉光放电腔室,产生高密度的等离子体。配有自动阻抗适配器实现最优化,用户可以选择离子能量和离子密度来满足工艺的要求。广泛用于沉积和刻蚀工艺中。 射频的额定功率 0.5 KW 或更高,中和器的额定功率 0.5 A 或更高。