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mini型磁控溅射仪KT-Z1650PVD,该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体,对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护等特点。设备可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质;可制备单质金属层如钛、铬、银、铜或金属化合物膜层如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等;可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等颜色。
mini型磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数;
控制方式
7寸人机界面 手动 自动模式切换控制
溅射电源
直流溅射电源
镀膜功能
0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序
功率
≤1000W
输出电压电流
电压≤1000V 电流≤1A
真空
机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤5*10^-3Pa
溅射真空
≤30Pa
挡板类型
电控
真空腔室
石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm
样品台
可旋转φ62 (可安装φ50基底)
样品台转速
8转/分钟
样品溅射源调节距离
40-105mm
真空测量
皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa)
预留真空接口
KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口
mini型磁控溅射仪,KT-Z1650PVD
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