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发布时间:2022年04月
UNIPOL-1203化学机械磨抛机,适用于CMP平坦化和平滑化工艺技术, 整机研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀,配置自动滴料器和精密磨抛控制仪,全自动触摸屏面板,从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。
1、超平不锈钢抛光盘(平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm)。2、超精旋转轴(托盘端跳小于0.01mm)。3、设有两个加工工位,可分别进行控制。4、配有全自动控制触摸屏面板,可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。5、配置自动滴料器,流量速率可视化调整,自动研磨和抛光。6、配置GPC-100A精密磨抛控制仪,可调节压力,修整面型,使磨抛更加方便快捷。7、研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀。
1、外形尺寸:550mm×700mm×420mm2、重量:74Kg
修盘环(陶瓷)
抛光垫
(磨砂革、合成革、聚氨酯)
刚玉研磨微粉
二氧化硅悬浮抛光液 2040 W0.05
UNIPOL-1203化学机械磨抛机,UNIPOL-1203
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