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对于一台泵同时运行两个独立的真空应用需求,此款化学真空系统是一个既经济又能节省空间的解决方案。基础泵是备受欢迎的MD 4C NT三级隔膜泵,PC 611 select常用于含高沸点溶剂的真空应用。该泵能够同时搭配两个独立的真空应用使用。一个应用由配备直通电磁阀的VACUU·SELECT真空控制器进行控制,另一个应用由手动流量调节阀进行抽速控制。两个真空端口都内置单向止回阀,能够防止交叉污染互相影响。集成式的VACUU·SELECT真空控制器采用直观、基于应用程序的用户界面,覆盖了所有实验室常见真空应用。VACUU·SELECT真空控制器可满足您所有要求。对于简易实验过程可手动修改控制参数,直接蒸馏,或者通过简单的“拖放”操作编辑创建自己的应用程序。在溶剂蒸发过程中,电子控制端口能检测爆沸时压力,当溶剂沸点被探测到时切换至两点法控制,将压力维持在一个稳定的水平。进气口分离瓶由玻璃制成,外覆一层保护膜,能防止颗粒和液滴进入泵内,防止泵损坏,延长泵的使用寿命。当连接冷水管道或循环制冷机时,出气口废气冷凝器可以实现溶剂将近百分回收,从而实现循环经济和环境保护。
配置图形用户界面的VACUU·SELECT真空控制器能简化实验室工作
预定义的应用程序能节省时间,并得到可重复的结果
简易操作的应用编辑器允许编辑一系列自定义真空应用
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PC 611 select可以同时运行两个独立的真空应用
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