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SPS 光刻机 POLOS μ
主要特征: 1、写入分辨率低至2 μm2、可调整的写作领域和具有可互换目标的解决方案3、与CAD文件或位图图像兼容4、与g线光刻胶兼容5、兼容多种基材(硅,玻璃,金属,塑料等)6、兼容任何样品尺寸达4英寸的晶片7、相机反馈以进行对准步骤8、由于没有硬掩模,节省了时间和金钱9、将设计直接覆盖在样品上的直观对齐方法10、占地面积小的桌面11、非常适合微电子,2D材料,微流体,光电,opty或任何其他2D微加工应用的技术
规格参数:
1、光源曝光:435 nm; 对准:525 nm2、最小特征尺寸:2至23 μm可调3、对准分辨率:低至1 μm / cm24、最大曝光面积:75 x75 mm25、基板尺寸:最大4”晶圆6、系统尺寸:W:(36厘米); D:(36厘米); 高:(60厘米)7、多合一PC:Win 10、24英寸全高清8、SFTprint软件:机器控制,步进重复,自动剂量测试,缝合,对齐9、SFTconverter:将标准格式(gdsii,dxf,cif,oas)转换为位图图像。 随附的CAD软件
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